§83化学气相沉积(CVD) ◆化学气相沉积 Chemical Vapor Deposition,缩写为:cvD; ◆在一个加热的基片或物体表面上,通过一种 或几种气态元素或化合物产生的化学反应, 而形成不挥发的固态膜层或材料的过程; ◆分为普通CVD等离子体化学气相沉积 ( PECVD)和光CVD(PCVD)等。§8.3 化学气相沉积（CVD） ◆ 化学气相沉积 —— Chemical Vapor Deposition，缩写为：CVD； ◆ 在一个加热的基片或物体表面上，通过一种 或几种气态元素或化合物产生的化学反应， 而形成不挥发的固态膜层或材料的过程； ◆ 分为普通CVD、等离子体化学气相沉积 （PECVD）和光CVD（PCVD）等