膜光学—蒸发工艺简介 真空系统 现代的光学薄膜制备,无论是PVD还是 CVD都是在真空下获得的。根据: Pv RT P-压强、V体积、T绝对温度、M分子量 m-质量、R气体普适常数(8.31x1023mol) n=72×102个米 大气下n=3x1019个/厘 P=1.33x104n=32x1010个/厘米3 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 真空系统 现代的光学薄膜制备，无论是PVD还是 CVD都是在真空下获得的。根据： RT M m PV = P-压强、V-体积、T-绝对温度、M-分子量、 m-质量、R-气体普适常数（8.31x1023/mol) ( ) 22 3 7.2 10 个/米 T P n =  大气下n=3x1019个/厘米3 ， P=1.33x10-4 ,n=3.2x1010个/厘米3