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概念清晰 掌握基本 成电 准确描 知道 概念不清 描述集成 楚 制造行 集成电 集成电野 不了解 电路制造 集成电路 课程目标 重要意义 别位衍业 行业重期 诰行业重要 10 5 重要竞义, 重要章义, 意义、发居 意义、发展 和太来发 发展规律 发展规律 和未来发 律和 展趋势 和未来发 规律和未米 发展趋 发展趋势 展趋势 展趋势 势 实验部分评价标准 达成情况评价标准 成绩比 基本要求 优秀20.9 良好20.7 合格≥0.6 不合格<0.6 %) 其太能铭大体能铭 能利用 能够利用 利用丁 利用 不能够利用 仿真软件 仿真软件 艺仿真到 软件, 括于合 基于合 件 据于合 课程目标 理的工艺 合理的 的之流 的之流 理的工艺济 3 流程,成 艺流程, 程,密我程。密我 程,完成 MOSEET F MOSEE MOSEET A AOSEET知 MOSFET和 BT器件的 和BT件 BT器件的BT件的 BT器件的 仿真 的仿真 仿真,有 仿真 但有 仿真 许错误 很多错误 基本能觞 大体能够 能利用工 能利用工 利用工梦 利用工艺 艺仿真软 艺仿真软 仿真软件 仿真软件 不能够利用 ,观察 件,观察 观察工艺 观察工艺 艺仿真到 观察 艺参数为 参数对于 参数对 课程目标 乙参数对 艺参数对于 平器件特 于器件特 器件特性 器件特性 4 10 摆件特性的 性的乡响 性的号影响, 的号影向.并 的影向.并 影响,并对 并对工艺 并对工艺 对工艺参 对工艺酸 参数进行 参数进行 数进行优 数进行优 工艺参数进 行优化 优化 优化 化,有少许 化,但有很 错误 多错误 注:表格中比例为各课程目标所占总评成绩的权重。 六、 教材及参考书目 《半导体器件物理与工艺(第三版)》,施敏原著,王明湘等译,苏州大学出版社课程目标 5 集成电路 制造行业 重要意义、 发展规律 和未来发 展趋势 概念清晰, 准确描述 集成电路 制造行业 重要意义、 发展规律 和未来发 展趋势 概念较清 晰,基本能 描 述 集 成 电路制造 行业重要 意义、发展 规律和未 来发展趋 势 掌握基本 概念,知道 集成电路 制造行业 重要意义、 发展规律 和未来发 展趋势 概念不清 楚,不了解 集成电路制 造行业重要 意义、发展 规律和未来 发展趋势 10 实验部分评价标准 基本要求 达成情况评价标准 成绩比 例 (%) 优秀0.9 良好0.7 合格0.6 不合格<0.6 课程目标 3 能 利用工 艺仿真软 件,基于合 理的工艺 流程,完成 MOSFET 和 BJT 器件的 仿真 能 够 利 用 工艺仿真 软件,基于 合理的工 艺流程,完 成 MOSFET 和 BJT 器件 的仿真 基 本 能 够 利用工艺 仿真软件, 基于合理 的工艺流 程,完成 MOSFET 和 BJT 器件的 仿真,有少 许错误 大体能够 利用工艺 仿真软件, 基于合理 的工艺流 程,完成 MOSFET 和 BJT 器件的 仿真,但有 很多错误 不能够利用 工艺仿真软 件,基于合 理的工艺流 程,完成 MOSFET 和 BJT 器件的 仿真 20 课程目标 4 能 利用工 艺仿真软 件,观察工 艺参数对 于器件特 性的影响, 并对工艺 参数进行 优化 能 利用工 艺仿真软 件,观察工 艺参数对 于器件特 性的影响, 并对工艺 参数进行 优化 基 本 能 够 利用工艺 仿真软件, 观察工艺 参数对于 器件特性 的影响,并 对工艺参 数进行 优 化,有少许 错误 大体能够 利用工艺 仿真软件, 观察工艺 参数对于 器件特性 的影响,并 对工艺参 数进行 优 化,但有很 多错误 不能够利用 工艺仿真软 件,观察工 艺参数对于 器件特性的 影响,并对 工艺参数进 行优化 10 注:表格中比例为各课程目标所占总评成绩的权重。 六、 教材及参考书目 《半导体器件物理与工艺(第三版)》,施敏原著,王明湘等译,苏州大学出版社
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