(3)第一脱活期：在400~500℃之间。此时，催化活性和吸附 能力下降。说明先前形成的分子表面膜得到发展和加强，并在 一定程度上对质点的扩散起阻碍作用。不过，这作用仍局限在 表面范围。 (4)二次活化期：在500~620℃之间。这时，催化活性再次增 强，密度减小，磁化率增大，X射线衍射谱上仍未显示出新相 谱线，但ZnO谱线呈现弥散现象，说明FezO3渗入ZnO晶格， 反应在整个颗粒内部进行，常伴随着颗粒表层的疏松和活化。 此时反应物的分散度非常高，不可能出现新晶格，但可以认为 晶核已经形成。（3）第一脱活期：在 400~500℃ 之间。此时，催化活性和吸附 能力下降。说明先前形成的分子表面膜得到发展和加强，并在 一定程度上对质点的扩散起阻碍作用。不过，这作用仍局限在 表面范围。 （4）二次活化期：在 500~620℃ 之间。这时，催化活性再次增 强，密度减小，磁化率增大，X 射线衍射谱上仍未显示出新相 谱线，但 ZnO 谱线呈现弥散现象，说明 Fe2O3 渗入 ZnO 晶格， 反应在整个颗粒内部进行，常伴随着颗粒表层的疏松和活化。 此时反应物的分散度非常高，不可能出现新晶格，但可以认为 晶核已经形成