近贴聚焦过程不改变粒子的横向动量，与一般的成像不同，各 轨迹的虚像点并不重合.其投射成像的单向放大率M,恒为1.也 可如前文一样讨论其像差，即认为散射圆的大小、虚像位置的差 距、虚像平面上“弥散圆”的大小来自像差.如果场是理想均匀场， 每个物点都可看作轴上的点，无所谓“轴外像差”，只有轴上像差， 包括因不同的色差与因初速度角，不同的球差.可以用ε. cos20和e,=osin0代入以上各式，分别讨论这两种像差.也可 合并之，称为色球差，以k的幂次分为一阶、二阶.阳极平面散射圆 的半径是一阶色球差.称虚像点沿轴的散开为纵向色球差，其一阶 项也与kd同量级.称各轨迹反向延长线在虚像平面上构成的弥 散圆半径为横向色球差，它与kd同量级，数值更小.理论上可推 算出（过程略）：在极限虚像面上，弥散圆半径来自(=士于的轨 迹，此半径等于kd:在其附近（见图5.2）有弥散圆半径最小的最 佳虚像面M,该处弥散圆半径为0.6kd