在实际的近贴聚焦系统中，场不可能是理想均匀场.使场变形 的因素之一是：如果有后续聚焦系统，阳极面必须开孔，以允许电 子束通过（如用栅网作阳极，网丝的散射会对成像产生不良影响）. 如图5.3所示为阳极孔处等位面的形状与中心轴上的V(z)分布. 显然，阳极孔附近的场有发散作用，称为“阳极孔效应”，又称“阳极 孔折射”.用第2章2.3节中膜片透镜的原理分析，可将阳极孔看 作一个V。'>0,V。'=0的发散型膜孔透镜，并按薄透镜近似计算 其焦距等参量，估汁此禾座立小h针n估击流发散角增大、虚像 点移近等效应.这 阳极孔 迹已是较好的近似， 但对离该轴较， 不然.由图中可以看 出，远轴处等付 曾加.使场变形的因 素之二是阴极 不均匀.试想像阴极 是有限大的圆板， 极边缘附近畸变更 甚，产生发散作用 风) K