+468+ 北京科技大学学报 2000年第5期 基片边缘位置的形核情况.从图中可以看出，金 刚石膜的晶核的大小和分布都是均匀的，大口 径的等高子体炬能均匀地形核 23成膜后的均匀性 在很好地控制金刚石膜的生长的情况下， 进行均匀生长的实验.采用直径为60mm的基 片，整个上表面都磨光，然后进行超声清洗.观 察不同位置崩裂下的金刚石膜生长面的形貌， 田1大面积锦高子体炬的电道状态 发现大面积金刚石膜是很均匀的，图5是大面 Fig.2 The state of large area plasma arc 积金刚石膜中心位置的形貌，图6是大面积金 2.2形核阶段的均匀性 在基片的中心位置和边缘位置各放置1个 试样片，形核后观察其形貌.基片不转动，基片 温度控制在870℃左右，甲烷质量分数为1%.在 实验前，试样片都经过超声清洗，以确保清洁。 2个试样片的尺寸和材质相同，使两者具有可 比性. 图3是基片中心位置的形核情况，图4是 图5成酿后中心位置的扫描电镜照片 Fig5 SEM of centre of the thick flm sample 图6成膜后边缘位置的扫描电续照片 图3中心位量的扫猎电绩照片 Flg.6 SEM of edge of the thick flm sample Fig.3 SEM of centre of the nucleation sample 刚石膜边缘位置的形貌，从形貌来看，中心位置 和边缘差不多.对不同位置的金刚石膜的生长 面进行喇曼分析，图7是大面积金刚石膜中心 4.0 3.5 3.0 2.5 2.0 1.11.21.31.41.51.61.7 图4边缘位置的扫描电镜佩片 成膜后波数/x10cm' Fig.4 SEM of edge of the nucleation sample 图7中心位置的刚曼谱 Fig.7 Raman spectrum of centre of the thick film sample