从游离基的稳定性来说,稳定性次序为:3°R·>2°R·>1°R·>CH3·。一般来讲,游离 基越稳定,越容易生成,其反应速度越快。由于大多数游离基只在反应的瞬间存在,寿命很 短,所以稳定性是相对的。从游离基的稳定性来说，稳定性次序为：3°R•>2°R•>1°R•>CH3• 。一般来讲，游离 基越稳定，越容易生成，其反应速度越快。由于大多数游离基只在反应的瞬间存在，寿命很 短，所以稳定性是相对的