引线或芯柱,并将管壳与芯柱封接在一起:铟封工艺用于两种膨胀系数相差很大的玻璃或玻璃与各种 晶体、玻璃与金属间的真空密封,可用高纯铟作焊料冷压而成,这种工艺常用于摄像管窗口和管壳间 的封接。它适合于不能承受高温的零部件的真空密封,且铟能作为电极引出线使用:烧结金属粉末法 和活性金属法广泛采用陶瓷金属封接,前者是将钼、锰等金属粉末(有时添加少量氧化物作为活化剂) 涂敷在待封接的陶瓷表面,再在氢炉中在900-1600°℃范围内的某一温度烧结成金属化层,经镀镍后用 焊料与金属加以封接。活性金属法则是利用钛、锆等活性金属和焊料或含活性金属的合金焊料,在真 空炉中升温至略高于焊料熔点的温度,形成液相活性合金来润湿陶瓷和金属,完成封接:除这两种工 艺外,还有氧化物焊料法、扩散封接以及利用蒸发或溅射金属化来进行封接等工艺:钎焊及氩弧焊用 于金属间的连接,常采用在氢炉或真空炉中钎焊的工艺 测试:有些高频系统的部件,如谐振腔、慢波电路等,制成后应先进行"冷测",以检验其电气性能。 必要时可对部件作些调整。对于光电器件,靶面制成后需经动态测试,以检验其性能。封接、钎焊或 氩弧焊的部件,如作为管壳的一部分,则必须用检漏仪(如氦质谱仪等)检验其焊缝的密封性能,合格后 才能用于总装 3)总装:经检验合格的部件用高频集中焊、钎焊或氩弧焊等方法装配成整管后即可进行排气。 4)排气:将总装好的器件内部气体抽出,使压强达到10-5帕以下的过程称排气 5)老炼:对排气后的器件进行电气处理以获得稳定的电气性能的工艺称为老炼。 6)测试:器件经老炼后需要测试性能,主要参数应达到预定的指标。这种测试亦称"热测"。为使 用可靠,还须抽样进行动态特性试验、寿命试验、耐冲击试验、耐震试验及冷热循环等例行试验。 7)充气工艺:有些器件如稳压管、闸流管和离子显示器件等,内部须充有一定的特种气体如氢、 氦、氖、氩等 8)镀膜工艺:在现代真空电子器件制造过程中,镀膜工艺应用很广。镀膜工艺包括真空蒸发 溅射、离子涂敷及化学气相沉积等。在制作摄像管、光电倍增管时,各类透明导电膜、光电阴极和光 导靶面材料采用真空蒸涂的方法制成。显像管荧光膜内表面常蒸铝膜以防止荧光膜灼伤,也可提高管 子的亮度和对比度。现代镀膜工艺也被用来改变某些材料的表面状态,制作阴极以及使陶瓷或其他介 质表面低温金属化和实现高频低损耗的封接等。 9)离子刻蚀:这是用离子能量将固体原子或分子从表面层上逐渐剥离的一种新型微细加工方法。 使用掩膜可以制出精密图形。这种工艺可用于器件零部件的表面薄层剥离、有机膜的去除以及对摄像 管晶体靶面进行清洁处理或制作靶面的精细网格等。 10)荧光屏涂敷:显像管和示波管屏面内表面须涂敷一层均匀的荧光物质。涂屏方法主要有沉淀 法、粉浆法和干法几种。 沉淀法:黑白显像管、示波管常用沉淀法涂屏。先将玻屏清洗干净,注入含硅酸钾的工作液,再注 入含荧光质的悬浮液。经过一定时间的静置沉淀后倒出残液,通入60左右的热空气流,同时用红外灯 或热空气均匀地从外部加热,使之干燥。在400~450°C下焙烧,以去除涂敷过程中引入的有机杂质 粉浆法:彩色显像管荧光屏多采用粉浆法涂敷荧光粉,即采用含有水溶性感光胶的荧光粉浆注入5 引线或芯柱，并将管壳与芯柱封接在一起；铟封工艺用于两种膨胀系数相差很大的玻璃或玻璃与各种 晶体、玻璃与金属间的真空密封，可用高纯铟作焊料冷压而成，这种工艺常用于摄像管窗口和管壳间 的封接。它适合于不能承受高温的零部件的真空密封，且铟能作为电极引出线使用；烧结金属粉末法 和活性金属法广泛采用陶瓷金属封接，前者是将钼、锰等金属粉末(有时添加少量氧化物作为活化剂) 涂敷在待封接的陶瓷表面，再在氢炉中在 900~1600℃范围内的某一温度烧结成金属化层，经镀镍后用 焊料与金属加以封接。活性金属法则是利用钛、锆等活性金属和焊料或含活性金属的合金焊料，在真 空炉中升温至略高于焊料熔点的温度，形成液相活性合金来润湿陶瓷和金属，完成封接；除这两种工 艺外，还有氧化物焊料法、扩散封接以及利用蒸发或溅射金属化来进行封接等工艺；钎焊及氩弧焊用 于金属间的连接，常采用在氢炉或真空炉中钎焊的工艺。 测试：有些高频系统的部件，如谐振腔、慢波电路等，制成后应先进行"冷测"，以检验其电气性能。 必要时可对部件作些调整。对于光电器件，靶面制成后需经动态测试，以检验其性能。封接、钎焊或 氩弧焊的部件，如作为管壳的一部分，则必须用检漏仪(如氦质谱仪等)检验其焊缝的密封性能，合格后 才能用于总装。 3) 总装：经检验合格的部件用高频集中焊、钎焊或氩弧焊等方法装配成整管后即可进行排气。 4) 排气：将总装好的器件内部气体抽出，使压强达到 10-5 帕以下的过程称排气。 5) 老炼：对排气后的器件进行电气处理以获得稳定的电气性能的工艺称为老炼。 6) 测试：器件经老炼后需要测试性能，主要参数应达到预定的指标。这种测试亦称"热测"。为使 用可靠，还须抽样进行动态特性试验、寿命试验、耐冲击试验、耐震试验及冷热循环等例行试验。 7) 充气工艺：有些器件,如稳压管、闸流管和离子显示器件等，内部须充有一定的特种气体如氢、 氦、氖、氩等。 8) 镀膜工艺：在现代真空电子器件制造过程中，镀膜工艺应用很广。镀膜工艺包括真空蒸发、 溅射、离子涂敷及化学气相沉积等。在制作摄像管、光电倍增管时，各类透明导电膜、光电阴极和光 导靶面材料采用真空蒸涂的方法制成。显像管荧光膜内表面常蒸铝膜以防止荧光膜灼伤，也可提高管 子的亮度和对比度。现代镀膜工艺也被用来改变某些材料的表面状态，制作阴极以及使陶瓷或其他介 质表面低温金属化和实现高频低损耗的封接等。 9) 离子刻蚀：这是用离子能量将固体原子或分子从表面层上逐渐剥离的一种新型微细加工方法。 使用掩膜可以制出精密图形。这种工艺可用于器件零部件的表面薄层剥离、有机膜的去除以及对摄像 管晶体靶面进行清洁处理或制作靶面的精细网格等。 10) 荧光屏涂敷：显像管和示波管屏面内表面须涂敷一层均匀的荧光物质。涂屏方法主要有沉淀 法、粉浆法和干法几种。 沉淀法：黑白显像管、示波管常用沉淀法涂屏。先将玻屏清洗干净,注入含硅酸钾的工作液,再注 入含荧光质的悬浮液。经过一定时间的静置沉淀后倒出残液，通入 60 左右的热空气流，同时用红外灯 或热空气均匀地从外部加热，使之干燥。在 400~450℃下焙烧，以去除涂敷过程中引入的有机杂质。 粉浆法：彩色显像管荧光屏多采用粉浆法涂敷荧光粉，即采用含有水溶性感光胶的荧光粉浆注入