中国科学技术大学物理系微电子专业 平面工艺中主要工序 (1)外延生长 (2)氧化 (3)扩散 (4)离子注入 (5)光刻 Semiconductor Devices 2021/24中国科学技术大学物理系微电子专业 2021/2/4 7 Semiconductor Devices 平面工艺中主要工序 （1）外延生长 （2）氧化 （3）扩散 （4）离子注入 （5）光刻