毛玻璃U1U1全息千板 (a)记录光路 (b)再现光路 图2漫射光照明的二次曝光光路 3全息曝光法的应用与展望 3.1曝光技术在制作光纤光栅器件上的应用 全息曝光法制作光纤光栅是人们早已采用的一种工艺),它首先通过分束器将光源分成 两束等强光束,经过相同光程照射在光纤上形成强度周期性变化的干涉条纹,光纤折射率随光 强发生周期性变化形成了光纤光栅。光栅周期T与入射波长A,以及两干涉分束夹角φ满足 关系式T=n/2in。全息曝光法的主要优点是光栅制作周期调谐方便灵活,Brag波长可通 过改变入射光束间夹角很容易进行调节。利用曝光技术制成的光纤光栅的应用领域正在不断 取得新的进展,一方面主要集中于光纤光栅传感器。另一方面则是在光纤通讯领域。随着光纤 光栅制作性能的不断完善将会导致光纤技术及其相关领域的又一次新的革命。 目前,一些发达国家已有相当的人力和物力集中对光纤光栅器件进行了研究和制作并取 得了令人瞩目的成果,其中光纤布喇格光栅和诸多全光纤光子器件有望在不远的将来进入实 用化。随科学技术和信息技术及其需求的迅猛发展,从其应用前景来看,光纤光栅技术有着巨 大的潜力,许多已经通用的器件都可能被光纤光栅器件所替代,光纤光栅以及相关器件的研制 必然产生巨大的经济效益,目前 Bragg光纤光栅已形成产品步入市场。 32二次曝光技术在光刻术方面应用 光刻术是把超小线条刻印到半导体薄片上来制作复杂电路的技术,目前这些半导体电路 正促使信息爆炸。这一技术是今天经典光学设计和制造的需求量最大的应用之一。光刻技术 的进展对半导体工业的显著增长也有一定的贡献。半导体技术从粗糙的单个晶体管到由百万 个晶体管很快将是10亿个晶体管组成的微处理器和记忆芯片非同寻常的发展是一段令人 神往的历史。1979年,常规智能把光刻限制到1m的分辨率,出现了1983年就被电子束成像 系统所替代的情形,到1985年这一估算修改为05m的最小分辨率,又出现了1993年被X 射线光刻术取代的情形。今天,用光刻进行025m生产刚刚开始,0.18m似乎也有可能。但 光刻一直是芯片生产成本的限制因素。什么技术能够同时满足光刻过程的成本的性能要求?迄 今只有光学投影光刻术显示出适于完成这一任务。根据瑞利标准,分辨率是由成像光的波长 2 01995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co, Ltd All rights reserved.© 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved