(λ)和投影透镜的数值孔径(NA)决定 R∞/NA 其中一部隐含的但是重要的假定是:像质在这种分辨率下近乎完美。此外,图像的场尺寸必须 很大。因此,改善光学分辨率的挑战是显而易见的。随着二次曝光技术的不断发展,这一技术 在改变光学分辨率上将有一定的应用前景 33二次曝光技术应用于物体表面的变形和位移的研究 用全息干涉方法可以研究不透明物体表面的变形和位移。其光路如图3.其中采用了平行 光垂直照明的方式。图4是表面形变二次曝光全息干涉原理图。二次曝光全息干涉法是比较 Hf目 观察点 照明点源 图3平面物体位移和变形的二次曝光光路图4表面形变二次曝光全息干涉原理图 两波面沿观察方向的相位变化△中或光程差,故一张全息图只能观察到沿观察方向的形变分 量。如图4所示,假定物体是在垂直于其表面的方向发生位移Z,若照明光和表面法向成a角 观察角为B,当Z1很小时,其光程差为 AS=S-S,=Z,(cosa+cosB) (3) 相位差△中为 △中=于△S=Z1( cosaTcosB) (4) 由式(1),则干涉图上的光强度分布为 I(x,y)=20%(x,y)1+cos[ZI(cosa+cosp)) (5) 利用三角关系 式(5)可化为 I(x,y)=40(x, y)cos(.Z,(cosa+cosB)) (6) 因此,(1)由式(6)可知当△中=32(0sa+cos)改变r时,变化一个条纹,即 Z(cosa+cosB)=λ Z1=λ/(cosa+cosB) (7) 2 01995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co, Ltd All rights reserved.© 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved