4分子束外延(MBE) 利用分子束在单晶衬底上生长单晶层的外 延方法。 特点:1)新工艺,边生产,边分析、控制。 2)超真空条件下,制膜超纯。 3)生长速度低,成品率高。 T基片 力口 液氮 恒温槽Ga^s 图1-16MB原理图4.分子束外延(MBE) ◼ 利用分子束在单晶衬底上生长单晶层的外 延方法。 特点：1）新工艺，边生产，边分析、控制。 2）超真空条件下，制膜超纯。 3）生长速度低，成品率高