3化学气相淀积CVD) 使用加热、等离子和紫外线等各种能源 使气体物质经化学反应形成固态物质淀 积在衬底上的方法。 常用设备:反应气体输入部分;反应激活 能源供给部分和气体排出部分。 特点:气体工艺。 主气流 淀积层P2)乙物 反应生 衬底 图1-14cVD的过程示意图3.化学气相淀积(CVD) 使用加热、等离子和紫外线等各种能源， 使气体物质经化学反应形成固态物质淀 积在衬底上的方法。 常用设备：反应气体输入部分；反应激活 能源供给部分和气体排出部分。 特点：气体工艺