⊙7控港克解液 合试 满动电解漾 ()电解抛光装置 5电解拉光装置与电解免能光 电电解的装图25所示。试样接阳极、不锈服板作用 ，阳极发生溶解，金属离子进入溶液中。电解抛光 的原理 论来解释，如图25心)所示。电解抛光时，在原来高低不平的试样表面上形成一层具有较高 电阻的薄膜，试样凸起部分的膜比凹下部分薄，膜越薄电阳越小，电流密度越大，金属溶解 速度越快，从而使凸起部分渐趋平坦，最后形成光滑平整的表面。在抛光操作时必须选择合 适的电压，控制好电流密度，过低和过高的电压都不能达到正常抛光的目的。 (仔)化 直接在显微镜下观察。 化学抛光是靠化学溶解作用得到光滑的抛光表面。这种方法操作简单，成本低廉，不需 要特别的仪器设备，对原来试样表面的光洁度要求不高，这些优点都给金相工作者带来很大 方便 化学抛光的原理与电解抛光类似，是化学药剂对试样表面不均匀溶解的结果。在溶解的 过程中表层也产生 层氧化膜，但化学抛光对试样原来凸起部分的溶解速度比电解抛光慢， 因此经化学抛光后的磨面较光滑但不十分平整，有波浪起伏。这种起伏一般在物镜的垂直鉴 适于用显微镜作低倍和中倍观察 化学抛光液的成分随抛光材料的不同而不同。一般为混合酸溶液，常用的酸类有： 酸、铬酸，硫酸、醋酸、硝酸及氢氟酸。为了增加金属表面的活性以利于化学抛光的进行， 还加入一定量的过氧化氢。化学抛光液经使用后，溶液内金属离子增多，抛光作用减弱，需 经常更换新溶液。 (五)金相试样的腐蚀 的组织抛 除外)，在显微镜下，只能看到光 亮的磨面及夹 化 分析，还须对试样进行腐蚀。常用的腐蚀方法有化学腐 化学腐蚀是将抛光好的样品磨面在化学腐蚀剂中腐蚀一定时间，从而显示出试样组织的 过程 纯金属及单相合金的腐蚀是一个化学溶解的过程。由于品界上原于排列不规则，具有较 高的自由能，所以晶界易受腐蚀而呈凹沟，使组织显示出来，在显微镜下可以看到多边形的 品粒。若腐蚀较深，则由于各品粒位向不同，不同的品面溶解速率不同，腐蚀后的显微平面 与原磨面的角度不同，在垂直光线照射下，反射进入物镜的光线不同，可看到明暗不同的晶 粒（如图2-6所示）。 19 １９ (a) 电解抛光装置 (b) 电解抛光原理 图2-５ 电解抛光装置与电解抛光原理 电解抛光的装置如图2-５(a)所示。试样接阳极、不锈钢板作阴极，放入电解液中，接通 电源后，阳极发生溶解，金属离子进入溶液中。电解抛光的原理现在一般都用薄膜假说的理 论来解释，如图2-5(b)所示。电解抛光时，在原来高低不平的试样表面上形成一层具有较高 电阻的薄膜，试样凸起部分的膜比凹下部分薄，膜越薄电阻越小，电流密度越大，金属溶解 速度越快，从而使凸起部分渐趋平坦，最后形成光滑平整的表面。在抛光操作时必须选择合 适的电压，控制好电流密度，过低和过高的电压都不能达到正常抛光的目的。 (3) 化学抛光 化学抛光是将试样浸在化学抛光液中，进行适当的搅动或用棉花经常擦拭，经过一定时 间后，就可以得到光亮的表面。化学抛光兼有化学腐蚀的作用，能显示金相组织，抛光后可 直接在显微镜下观察。 化学抛光是靠化学溶解作用得到光滑的抛光表面。这种方法操作简单，成本低廉，不需 要特别的仪器设备，对原来试样表面的光洁度要求不高，这些优点都给金相工作者带来很大 方便。 化学抛光的原理与电解抛光类似，是化学药剂对试样表面不均匀溶解的结果。在溶解的 过程中表层也产生一层氧化膜，但化学抛光对试样原来凸起部分的溶解速度比电解抛光慢， 因此经化学抛光后的磨面较光滑但不十分平整，有波浪起伏。这种起伏一般在物镜的垂直鉴 别能力之内，适于用显微镜作低倍和中倍观察。 化学抛光液的成分随抛光材料的不同而不同。一般为混合酸溶液，常用的酸类有：正磷 酸、铬酸，硫酸、醋酸、硝酸及氢氟酸。为了增加金属表面的活性以利于化学抛光的进行， 还加入一定量的过氧化氢。化学抛光液经使用后，溶液内金属离子增多，抛光作用减弱，需 经常更换新溶液。 (五)金相试样的腐蚀 试样抛光后(化学抛光除外)，在显微镜下，只能看到光亮的磨面及夹杂物等。要对试样 的组织进行显微分析，还须对试样进行腐蚀。常用的腐蚀方法有化学腐蚀法和电解腐蚀法。 (1) 化学腐蚀 化学腐蚀是将抛光好的样品磨面在化学腐蚀剂中腐蚀一定时间，从而显示出试样组织的 过程。 纯金属及单相合金的腐蚀是一个化学溶解的过程。由于晶界上原于排列不规则，具有较 高的自由能，所以晶界易受腐蚀而呈凹沟，使组织显示出来，在显微镜下可以看到多边形的 晶粒。若腐蚀较深，则由于各晶粒位向不同，不同的晶面溶解速率不同，腐蚀后的显微平面 与原磨面的角度不同，在垂直光线照射下，反射进入物镜的光线不同，可看到明暗不同的晶 粒(如图2-６所示)