图24转盘式金相预磨机 磨光时施加的压力越大，磨光速率也越大，但对变形层的深度却影响不大，所以在磨光 时可以适当加大压力。 (四)抛光 ()机机类光 抛光的目的就是要把磨光工序留下的变形层除去，并使抛光产生的变形层不影响显微组 织的观 抛 与磨光的机制基本相，即长在抛光织物纤维上的每颗磨拉可以看成是 一把 切除 于磨粒只能以弹性力与 作的 后 生的 到的组织，即不 求是有 舌的 者要求使用较粗的磨料 者要求使用最细的磨料，但抛 光速率较低。解决这个矛的最好办法就是把抛光分为两个阶段来进行。首先是粗抛，目的 是除去磨光的变形层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛本身形成的变形层是次要的考 虑，不过也应尽可能小：其次是精抛（又称终抛），其目的是除去粗抛产生的变形层，使抛光 损伤减到最小。 去，知抛常用的磨料品粒度为10一20 n的a-AlO、CrO或FeO 加水配成悬浮液 使用。目前，由于人造金刚石磨料具有以下优点， 已逐渐取代氧化铝等磨料：)与氧化铝 相比，粒度小得多的金刚石磨粒，地光速率要大得多，例如4一8um金刚石磨 的抛光速率与 10一20um氧化铝或碳化硅的抛光速率相近：2)表面变形层较浅：3)抛光质量较好 近年来已有在抛光机上配置微型计算机，使抛光过程自动化，抛光机可以按照规定的参 数（如转速、压力、润滑剂的选择，磨料喷撒频率等）进行工作，这些参数还可以随时间而变。 对于某种材料的金相试样，只要建立了最佳制样参数 制样效果的重现性很好，工作效率 探进不过这种样设备并不能完全取代金相技术人员的工作，它只能按照人们顶制淀的一 工作 (②抛光 上述问题 济解过程金角织显示的 不 的丰面办 形。对于硬度低的单相合金，如奥氏体不锈钢、高锰钢等宜采用此法。此外，电解抛光对试 样磨光程度要求低（一般用800号水砂纸磨平即可），速度快，效率高。 但是电解抛光对于材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感，非金属夹杂物处会被 剧烈地腐蚀，因此电解抛光不适用于偏析严重的金属材料以及作夹杂物检验的金相试样。 18１８ 图2-4 转盘式金相预磨机 1－电动机；2－底座；3－轴；4－磨盘；5－水砂纸； 6－螺钉；7－开关；8－罩；9－盘；10－调节旋钮；11－盖；12－水管 磨光时施加的压力越大，磨光速率也越大，但对变形层的深度却影响不大，所以在磨光 时可以适当加大压力。 (四) 抛光 (1) 机械抛光 抛光的目的就是要把磨光工序留下的变形层除去，并使抛光产生的变形层不影响显微组 织的观察。 抛光与磨光的机制基本相同，即嵌在抛光织物纤维上的每颗磨粒可以看成是一把刨刀， 根据它的取向，有的可以切除金属，有的则只能使表面产生划痕。由于磨粒只能以弹性力与 试样作用，它所产生的切屑、划痕及变形层都要比磨光时细小和浅得多。 抛光操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层，同 时要使抛光产生的变形层不致影响最终观察到的组织，即不会产生假象。这两个要求是有矛 盾的，前者要求使用较粗的磨料，但会使抛光变形层较深；后者要求使用最细的磨料，但抛 光速率较低。解决这个矛盾的最好办法就是把抛光分为两个阶段来进行。首先是粗抛，目的 是除去磨光的变形层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛本身形成的变形层是次要的考 虑，不过也应尽可能小；其次是精抛(又称终抛)，其目的是除去粗抛产生的变形层，使抛光 损伤减到最小。 过去，粗抛常用的磨料是粒度为10一20μm的α-Al2O3、Cr2O３或Fe2O3，加水配成悬浮液 使用。目前，由于人造金刚石磨料具有以下优点，已逐渐取代氧化铝等磨料：1) 与氧化铝等 相比，粒度小得多的金刚石磨粒，抛光速率要大得多，例如4～8μm金刚石磨粒的抛光速率与 10～20μm氧化铝或碳化硅的抛光速率相近；2) 表面变形层较浅；3) 抛光质量较好。 近年来已有在抛光机上配置微型计算机，使抛光过程自动化，抛光机可以按照规定的参 数(如转速、压力、润滑剂的选择，磨料喷撒频率等)进行工作，这些参数还可以随时间而变。 对于某种材料的金相试样，只要建立了最佳制样参数，制样效果的重现性很好，工作效率大 大提高。不过这种制样设备并不能完全取代金相技术人员的工作，它只能按照人们预制定的 程序进行工作。 (2) 电解抛光 机械抛光时，试样表面要产生变形层，影响金相组织显示的真实性。电解抛光可以避免 上述问题，因为电解抛光纯系电化学的溶解过程，没有机械力的作用，不引起金属的表面变 形。对于硬度低的单相合金，如奥氏体不锈钢、高锰钢等宜采用此法。此外，电解抛光对试 样磨光程度要求低(一般用800号水砂纸磨平即可)，速度快，效率高。 但是电解抛光对于材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感，非金属夹杂物处会被 剧烈地腐蚀，因此电解抛光不适用于偏析严重的金属材料以及作夹杂物检验的金相试样