点击下载:北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第八讲 薄膜的图形化技术(主讲:唐伟忠)
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光刻所用的掩膜 MauL 掩膜的示意图 A franky unman cr El pale 掩膜由高度平整的紫外石英玻璃和它上面由电子束刻蚀形 成的Cr薄膜图形所组成,前者可以透过紫外线,而后者 将对紫外线发生强烈的吸收光刻所用的掩膜 掩膜的示意图 掩膜由高度平整的紫外石英玻璃和它上面由电子束刻蚀形 成的Cr薄膜图形所组成,前者可以透过紫外线,而后者 将对紫外线发生强烈的吸收
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