过程设备设计 2.3.1弹性应力（续） 2.3厚壁圆筒应力分析 b.平衡方程 de de.dro-ordo-20drin sin(d0/2)≈dg/2 微元体平衡方程 do (2-26) dr 6 R R2 薄壁微元平衡方程。 拉普拉斯方程 10/52 2.3 厚壁圆筒应力分析 过程设备设计 b. 平衡方程 2.3.1 弹性应力（续） ( )( ) 0 2 + + − −2 sin = θ σ σ θ σ θ σθ d d r dr d rd dr r r r sin /2 (d /2) θ θ ≈d dσ 微元体平衡方程 10 / 52 t p R R + = 1 2 ϕ σ θ σ c. d. po pi m n m1 n1 Ri Ro m1 n1 m n r θ θ r+ d r dr dr r dr c. d. po pi m n m1 n1 Ri Ro m1 n1 m n r θ θ r+ d r dr dr r dr c. d. po pi m n m1 n1 Ri Ro m1 n1 m n r θ θ r+ d r dr dr r dr dr d r r r σ σ θ −σ = （2-26） 微元体平衡方程 薄壁微元平衡方程。 拉普拉斯方程