第二章、纳米结构制作技术 一、 光刻技术 目前纳米结构制作的主要途径是采用光刻手段在 物体上制作纳米量级图形。 随着光学光刻的极限分辨率可以达到光源波长的 一半，193nm波长的光源分辨率则可以达到100nm, 157nm波长的光源分辨率将达到70nm。而由于深紫 外线能被各种材料强烈吸收，继续缩短波长将难 以找到制作光学系统的材料。第二章 、纳米结构制作技术 • 一、光刻技术 • 目前纳米结构制作的主要途径是采用光刻手段在 物体上制作纳米量级图形。 • 随着光学光刻的极限分辨率可以达到光源波长的 一半，193nm波长的光源分辨率则可以达到100nm， 157nm波长的光源分辨率将达到70nm。而由于深紫 外线能被各种材料强烈吸收，继续缩短波长将难 以找到制作光学系统的材料