工艺步骤目的 掩膜/图形 对准和曝光在掩膜版和图形在晶圆上 的精确对准和光刻胶的曝 影影光刻胶 晶圆 氧化层 光。负胶是聚合物 影 去除非聚合的光刻胶 光刻胶 lLllll 氧化层 晶圆工艺步骤 目的 在掩膜版和图形在晶圆上 的精确对准和光刻胶的曝 光。负胶是聚合物 对准和曝光 显影 除非聚合的光刻胶 去 掩膜 图形 / 光刻胶 氧化层 晶圆 晶圆 光刻胶 氧化层