其次,把图形从光刻胶层转移到晶园上。 这一步是通过不同的刻蚀方法把晶园上没有被 光刻胶保护的部分的薄膜层去掉。这时图形转 移就彻底完成了。如图所示。 工艺步骤目的 刻蚀 将晶圆顶层通过光刻 光刻胶 胶的开口去除 1%么氧化层 晶圆 光刻胶去除从晶圆上去除光刻 级氧化层 胶层其次，把图形从光刻胶层转移到晶园上。 这一步是通过不同的刻蚀方法把晶园上没有被 光刻胶保护的部分的薄膜层去掉。这时图形转 移就彻底完成了。如图所示。 艺步骤 工 目的 刻蚀 将晶圆顶层通过光刻 胶的开口去除 光刻胶去除 从晶圆上去除光刻 胶层 光刻胶 氧化层 氧化层 晶圆 晶圆