(3)注意使膜层厚度分布均匀，均匀性不好会造成膜的某些特征随表面位置的不同而 变化.让蒸发源与基片的距离适当远些，使基片在蒸镀过程中慢速转动，同时使工件尽量 靠近转动轴线放置. 【思考题】 1.机械泵的极限真空度是如何产生的？能否克服？ 2.油扩散泵的启动压强应为多少？为什么？ 3.用热耦计测高真空、用电离计测低真空行不行？如果不做成复合真空计，怎样避免 电离计被烧坏？ 4.关机时为何要将大气放入机械泵？ 5.进行真空镀膜为什么要求有一定的真空度？ 6.为了使膜层比较牢固，怎样对基片进行处理 7.为什么用干涉显微镜可以测量薄膜厚度？ 【参考文献】 [山王欲知，真空技术.成都：四川人民出版社，1981 2]罗思.真空技术.北京：机械工业出版社，1980 [3)高本辉，崔素言.真空物理.北京：科学出版社，1983 [4吴锡珑.大学物理.北京：高等教育出版社，1999 [)陈国平，薄膜物理与技术，南京，东南大学出版社，199： [问杨邦朝等，薄膜物理与技术，成都，电子科技大学出版社，1994 【刀尚世铉等编，近代物理实验技术（Ⅱ），北京，高等教育出版社，1993 [⑧唐伟忠，薄膜材料制备原理、技术及应用，北京，治金工业出版社，1999 30. （3）注意使膜层厚度分布均匀．均匀性不好会造成膜的某些特征随表面位置的不同而 变化．让蒸发源与基片的距离适当远些，使基片在蒸镀过程中慢速转动，同时使工件尽量 靠近转动轴线放置． 【思考题】 1．机械泵的极限真空度是如何产生的？能否克服？ 2．油扩散泵的启动压强应为多少？为什么？ 3．用热耦计测高真空、用电离计测低真空行不行？如果不做成复合真空计，怎样避免 电离计被烧坏？ 4．关机时为何要将大气放入机械泵？ 5．进行真空镀膜为什么要求有一定的真空度？ 6．为了使膜层比较牢固，怎样对基片进行处理？ 7．为什么用干涉显微镜可以测量薄膜厚度？ 【参考文献】 [1] 王欲知，真空技术．成都：四川人民出版社，1981 [2] 罗思．真空技术．北京：机械工业出版社，1980 [3] 高本辉，崔素言．真空物理．北京：科学出版社，1983 [4] 吴锡珑．大学物理．北京：高等教育出版社，1999 [5] 陈国平，薄膜物理与技术，南京，东南大学出版社，1993 [6] 杨邦朝等，薄膜物理与技术，成都，电子科技大学出版社，1994 [7] 尚世铉等编，近代物理实验技术（II），北京，高等教育出版社，1993 [8] 唐伟忠，薄膜材料制备原理、技术及应用，北京，冶金工业出版社，1999 - 30 -