(1)清洗衬底玻璃基板、钨丝和待蒸发的高纯铝丝： (2)清洗镀膜工作室： (3)将洗净的基片和铝丝放置在指定位置 3.抽取真空 (1)开总电源，开双热偶程控复合真空计电源，开机械泵电源： (2)观察热偶计示数变化，当热偶计示数到P阳数量级时，拉出低阀，机械泵直接抽 真空室直到复合计示数为Pa数量级： (3)先把低阀推讲，再把高阀打开： (4)先打开水龙头，再开扩散泵电源 (5)约20分钟后 扩散泵起作用，观察真空度的变化，记下真空系统的极限真空 (6)观察辉光.真空度进入102P时，关闭高阀，加上高压，观察辉光放电现象并记 录放电电流与真空度的关系.（选做内容，必须在老师指导下做） 4.蒸镀铝膜 (1)按实验室提供的具体操作步骤完成抽熔铝丝和加热蒸发等过程 (2)关闭扩散泵电源 5.测量系统霜率 关闭高阀，记录真空室的真空度与时间的关系，开始每隔2秒记录一次，真空度变化 慢时视情况延长测量时间间隔，直到真空度降低至P数量级，停止记录，做系统漏率曲线。 6。用干涉显微镜测量薄膜的厚度 先用刻蚀法制作薄膜台阶，然后用干涉显微镜测量薄膜厚度. 7,关机步骤 (1)此时扩散泵电源已关，低阀处于推进状态，高阀处于打开状态： (2)机械泵继续工作，直到复合计示数为1Pa数量级时，关闭高阀： (3)关闭水和机械泵电源 (4)关闭真空计电源和总电源 【注意事项】 为了蒸镀得到质量较好的薄膜，应当注意以下几个问题： (1)注意基片表面保持良好的清洁度.被镀基片表面的清洁程度直接影响薄膜的牢周 性和均匀性。基片表面的任何微粒、尘埃、油污及杂质都会大大降低满膜的附者力。为了 使薄膜有较好的反 封光的性能 基片表面应平整光滑 镀膜前基片必 项经过 格的清洗 烘干.基片放入镀膜室后，在蒸镀前有条件时应进行离子轰击，以去除表面上吸附的气体 分子和污染物，增加基片表面的活性，提高基片与膜的结合力. (2)将材料中的杂质预先蒸发掉(“预熔”).蒸发物质的纯度直接影响者薄膜的结构 和光学性质，因此除了尽量想高蒸发物质的纯度外，还成设法把材料中蒸发温府低于蒸发 物质的其它杂质预先蒸发掉 要使它蒸发到基片表面上. 在预熔时用活动挡板挡住蒸 发源，使蒸发材料中的杂质不能蒸发到基片表面。预熔时会有大量吸附在蒸发材料和电极 上的气体放出，真空度会降低一些，故不能马上进行蒸发，应测量真空度并继续抽气，待 真空度恢复到原来的状态后，方可移开挡板，加大蒸发电极的加热电流，进行蒸镀.应该 注意，只要真空室充过气，即使前次已“预熔”过或蒸发过的材料也必须重新预熔。 .29（1）清洗衬底玻璃基板、钨丝和待蒸发的高纯铝丝； （2）清洗镀膜工作室； （3）将洗净的基片和铝丝放置在指定位置． 3．抽取真空 （1）开总电源，开双热偶程控复合真空计电源，开机械泵电源； （2）观察热偶计示数变化，当热偶计示数到 Pa 数量级时，拉出低阀，机械泵直接抽 真空室直到复合计示数为 Pa 数量级； （3）先把低阀推进，再把高阀打开； （4）先打开水龙头，再开扩散泵电源； （5）约 20 分钟后，扩散泵起作用，观察真空度的变化，记下真空系统的极限真空； （6）观察辉光．真空度进入 10-2 Pa时，关闭高阀，加上高压，观察辉光放电现象并记 录放电电流与真空度的关系．（选做内容，必须在老师指导下做） 4．蒸镀铝膜 （1）按实验室提供的具体操作步骤完成抽熔铝丝和加热蒸发等过程； （2）关闭扩散泵电源． 5．测量系统漏率 关闭高阀，记录真空室的真空度与时间的关系，开始每隔 2 秒记录一次，真空度变化 慢时视情况延长测量时间间隔，直到真空度降低至 Pa 数量级，停止记录．做系统漏率曲线． 6．用干涉显微镜测量薄膜的厚度 先用刻蚀法制作薄膜台阶，然后用干涉显微镜测量薄膜厚度． 7．关机步骤 （1）此时扩散泵电源已关，低阀处于推进状态，高阀处于打开状态； （2）机械泵继续工作，直到复合计示数为 1 Pa 数量级时，关闭高阀； （3）关闭水和机械泵电源 （4）关闭真空计电源和总电源． 【注意事项】 为了蒸镀得到质量较好的薄膜，应当注意以下几个问题： （1）注意基片表面保持良好的清洁度．被镀基片表面的清洁程度直接影响薄膜的牢固 性和均匀性．基片表面的任何微粒、尘埃、油污及杂质都会大大降低薄膜的附着力．为了 使薄膜有较好的反射光的性能，基片表面应平整光滑．镀膜前基片必须经过严格的清洗和 烘干．基片放入镀膜室后，在蒸镀前有条件时应进行离子轰击，以去除表面上吸附的气体 分子和污染物，增加基片表面的活性，提高基片与膜的结合力． （2）将材料中的杂质预先蒸发掉（“预熔”）．蒸发物质的纯度直接影响着薄膜的结构 和光学性质，因此除了尽量提高蒸发物质的纯度外，还应设法把材料中蒸发温度低于蒸发 物质的其它杂质预先蒸发掉，而不要使它蒸发到基片表面上．在预熔时用活动挡板挡住蒸 发源，使蒸发材料中的杂质不能蒸发到基片表面．预熔时会有大量吸附在蒸发材料和电极 上的气体放出，真空度会降低一些，故不能马上进行蒸发，应测量真空度并继续抽气，待 真空度恢复到原来的状态后，方可移开挡板，加大蒸发电极的加热电流，进行蒸镀．应该 注意，只要真空室充过气，即使前次已“预熔”过或蒸发过的材料也必须重新预熔． - 29 -