毕娜等：取向硅钢薄带形变再结晶组织及织构演变 ·53· 00 Hr 100μm 100μm 100m (e) 100m -100m 图2取向硅钢薄带加热到不同温度时的轧面组织.(a)650℃：()750℃：(c)850℃：(d)950℃：(c)1050℃：(01200℃ Fig.2 Microstructures of rolling planes of the sheets annealed to different temperatures:(a)650℃：(b)750℃：(c)850℃：(d)950℃：(e) 1050℃：(01200℃ 时杂乱织构强度较弱.这种织构转变主要表现为绕 构，它与之前的强{120(001〉织构也存在绕001〉轴 001)轴的转动关系，与高斯单晶在高温退火时表现 的转动关系.由于在初次再结晶过程中立方取向晶粒 出来的行为相似四，此类型织构分布保持到升温至 形核较少，在1200℃保温4h后才表现出一定的长大 1200℃时，且{120〈001〉织构继续增加.另一方面， 趋势.当同时考虑到氢气气氛下高斯晶粒的低表面能 图3(2)中其他{110〈(uw〉织构的出现说明此时 优势，随着保温时间的增加，高斯晶粒的长大优势更加 {110}表面能低的优势开始有所体现. 充分，并最终获得了锋锐的高斯织构 图4给出1200℃保温过程中电子背散射衍射取 2.3退火再结晶过程磁性能演变 向成像结果.此时大晶粒所占比例较高，而将0.10mm 退火再结晶过程中组织与织构的演变与其磁性能 厚的薄带叠在一起进行取向成像，统计性较高，并同时 的变化直接相关.图5所示为67%压下率冷轧0.1mm 提供了组织与织构的信息.随着保温时间的延长， 薄带升温退火过程中磁感B,和铁损P,随退火温度和 {120001〉晶粒逐渐减少，与此同时高斯晶粒逐渐增 保温时间的变化，一定程度上可以印证前面的分析. 多，对应着高斯织构在保温6.5h后达到很高的强度. 可见，在经过冷轧退火后薄带磁感值均超过原始成品 此过程中织构类型再次发现了显著的转变，同时伴随 板，这是由于再结晶织构主要组分始终集中在对磁性 着毫米级别的大尺寸晶粒的显著增多，保温到6.5h后 能有益的m线内部.尤其是在850℃时高斯织构最强 占据主体.此处值得注意的是还得到了一定的立方织 最锋锐，而与之相比其他织构组分尤其是不利的，毕 娜等: 取向硅钢薄带形变再结晶组织及织构演变 图 2 取向硅钢薄带加热到不同温度时的轧面组织． ( a) 650 ℃ ; ( b) 750 ℃ ; ( c) 850 ℃ ; ( d) 950 ℃ ; ( e) 1050 ℃ ; ( f) 1200 ℃ Fig． 2 Microstructures of rolling planes of the sheets annealed to different temperatures: ( a) 650 ℃ ; ( b) 750 ℃ ; ( c) 850 ℃ ; ( d) 950 ℃ ; ( e) 1050 ℃ ; ( f) 1200 ℃ 时杂乱织构强度较弱． 这种织构转变主要表现为绕 〈001〉轴的转动关系，与高斯单晶在高温退火时表现 出来的行为相似［12］，此类型织构分布保持到升温至 1200 ℃时，且{ 120} 〈001〉织构继续增加． 另一方面， 图 3 ( f2) 中 其 他{ 110} 〈uvw〉织 构 的 出 现 说 明 此 时 { 110} 表面能低的优势开始有所体现． 图 4 给出 1200 ℃ 保温过程中电子背散射衍射取 向成像结果． 此时大晶粒所占比例较高，而将 0. 10 mm 厚的薄带叠在一起进行取向成像，统计性较高，并同时 提供了 组 织 与 织 构 的 信 息． 随 着 保 温 时 间 的 延 长， { 120} 〈001〉晶粒逐渐减少，与此同时高斯晶粒逐渐增 多，对应着高斯织构在保温 6. 5 h 后达到很高的强度． 此过程中织构类型再次发现了显著的转变，同时伴随 着毫米级别的大尺寸晶粒的显著增多，保温到6. 5 h 后 占据主体． 此处值得注意的是还得到了一定的立方织 构，它与之前的强{ 120} 〈001〉织构也存在绕〈001〉轴 的转动关系． 由于在初次再结晶过程中立方取向晶粒 形核较少，在 1200 ℃ 保温 4 h 后才表现出一定的长大 趋势． 当同时考虑到氢气气氛下高斯晶粒的低表面能 优势，随着保温时间的增加，高斯晶粒的长大优势更加 充分，并最终获得了锋锐的高斯织构． 2. 3 退火再结晶过程磁性能演变 退火再结晶过程中组织与织构的演变与其磁性能 的变化直接相关． 图5 所示为67% 压下率冷轧0. 1 mm 薄带升温退火过程中磁感 B8和铁损 P1. 7随退火温度和 保温时间的变化，一定程度上可以印证前面的分析． 可见，在经过冷轧退火后薄带磁感值均超过原始成品 板，这是由于再结晶织构主要组分始终集中在对磁性 能有益的 η 线内部． 尤其是在 850 ℃ 时高斯织构最强 最锋锐，而 与 之 相 比 其 他 织 构 组 分 尤 其 是 不 利 的， · 35 ·