第宄章基本咒刻工艺--从曝到最终裣验 6 显影方式 显影方式分为:湿法显影干法(等离子)显影 湿法显影沉浸喷射混凝 沉浸显影 最原始的方法。就是将待显影的晶园放入盛 有显影液的容器中,经过一定的时间再放入加有 化学冲洗液的池中进行冲洗。比较简单,但存在 的问题较多,比如:液体表面张力会阻止显影液 进入徼小开孔区;溶解的光刻胶粘在晶园表面影 响显影质量;随着显影次数增加显影液的稀释和 污染;显影温度对显影率的影响等 喷射显影 显影系统如图97所示。由此可见,显影剂和 冲洗液都是在一个系统内完成,每次用的显影液第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －6－ ◼ 显影方式 显影方式分为：湿法显影 干法（等离子）显影 ◼ 湿法显影 沉浸 喷射 混凝 ◼ 沉浸显影 最原始的方法。就是将待显影的晶园放入盛 有显影液的容器中，经过一定的时间再放入加有 化学冲洗液的池中进行冲洗。比较简单，但存在 的问题较多，比如：液体表面张力会阻止显影液 进入微小开孔区；溶解的光刻胶粘在晶园表面影 响显影质量；随着显影次数增加显影液的稀释和 污染；显影温度对显影率的影响等。 ◼ 喷射显影 显影系统如图9.7所示。由此可见，显影剂和 冲洗液都是在一个系统内完成，每次用的显影液