第七章气相沉积技术 ③ S&三 CH口口L口 F MATERIALS SCIENGE& ENGINEERING 721CVD反应过程及一般原理 平在反应器内进行的CⅴD过程,其化学反应是不均 匀的,可在衬底表面或衬底表面以外的空间进行。 业衬底表面的大致过程如下: 学 (1)反应气体向衬底表面扩散。 (2)反应气体分子被吸附于衬底表面。 #(3)在表面上进行化学反应、表面移动、成核及 科 学 膜生长。 与(4)生成物从表面解吸 (5)生成物在表面扩散 学 况3 7.2.1 CVD反应过程及一般原理 在反应器内进行的CVD过程，其化学反应是不均 匀的，可在衬底表面或衬底表面以外的空间进行。 衬底表面的大致过程如下： （1）反应气体向衬底表面扩散。 （2）反应气体分子被吸附于衬底表面。 （3）在表面上进行化学反应、表面移动、成核及 膜生长。 （4）生成物从表面解吸。 （5）生成物在表面扩散。 第七章 气相沉积技术