由于可以发生反应(6)~(8)而 :形城点蚀核的位置其电位及介质条件是不 受表面钝化膜的影响的（钝化膜已被除去） 丽且都是相同的，因此它们形成点蚀的动 力学规律也相同。其余表面则按反应(4) (母)而钝化。即使被钝化膜覆盖的表面 :上，发生点蚀的位置与该位置上膜的破坏； 程度或缺陷情况有很火关系，这就解释了 带膜表面上点蚀并不是同时起源的原因。 上述的点蚀过程应当同样可以解释点 来 蚀表面发生的再钝化现象。当表面电位低 照片11划痕上蚀杂处起源的点 于E:p时，反应(6)~(8)便不能再 (18-8Ti,30%MgCl2(110℃)，-330m) 进行，而是反应(4)和(5)，结果使 photo,11 点蚀表面发生了钝化，蚀孔不再发展。电 The Pitting nucleated on the inclusion 位回扫至保护电位表明，生长着的点蚀钝化了。因此，E:和E实际上具有相同的意 义，其本质都是使C1离子维持吸附，反应(6)~(8)能够进行的最低电位。E:P 和E,应当是同一个特征电位。这就可以解释为什么两个电位非常相近（表2），它们 之间的差值可能主要是由于点蚀孔的发展使E,所对应的环境条件与E:的对应的条件 有所不同而引起的。 在钝化膜所覆盖的表面上，发生点蚀同样应按上述反应历程进行，只不过由于在这 些膜的微缝隙中存在的电位降，外加电位必须高于E:。才可能使界面处的电位达到E:。 因此带膜表面的点蚀电位E,就高于去膜表面的点蚀电位E,。(表2) 对于点蚀的形成，C1的主要作用就在于能使它所吸附的位置点不被钝化而保持溶 ● 解活性。一个基本条件就是电位须达到临界值。该值与金属本身成分，缺陷、C1离子浓 度，温度等因素有关。点蚀的各种特征电位（点蚀电位，保护电位及裸表面点蚀电位等）都 是这一临界值的不同表现。当外界因素的影响较小时，这些电位就可以相等。这一推论 可用于解释许多文献c6,20,21,22报导的点蚀电位和保护电位是相等这一事实。实际上， 保护电位及裸表面点蚀电位是不受膜干扰的真正的点蚀电位，而在带膜表面上测得的点 蚀电位是受到膜状况的影响的。带膜表面的点蚀电位一般高于前两种特征电位是由于膜 中微缺陷里的欧姆降引起的。因此可以推知钝化膜微裂纹较大的金属或合金其带膜表面 点蚀电位与去膜表面点蚀电位差距应该小，因为其欧姆降小。文献中报导的试验事实的 确如此，钝化膜微裂纹尺寸较大的A1在水溶液中的这两点蚀电位基本相同10？。对于A1 一Cu合金(11)和A1一Zn合金12)，也发现用划破电极方法，动电位扫描方法及恒电流 方法获得的点蚀电位是相同的。 3,2点蚀起源位置和点蚀形貌 前述的试验结果表明，在去膜不锈钢表面上晶界的交界处及夹杂处是点蚀的起源位 置。这与文献〔23-一25)结果相似。Hashimoto等26)采用砂纸打磨试样表面获得去膜表面 的方法研究了晶态和非晶态合金点蚀行为他们发现在同样条件下非晶态没有点蚀，而类 97￡ ，、 ， 由于可 以发生反 应 一 而 形成点蚀核的位置 其 电位 及介质 条件是 不 亡磨表面钝化膜的影响的 钝化膜 已被 除去 履且都是相 同的 ， 因此它们 形成点蚀 的动 力学 规律也 相同 。 其余表面财按反 应 入 昏 而钝化 。 即使被钝化膜覆盖 的表面 上乡 发生点蚀的位置与该 位置土膜 的破坏 程度或缺陷情况有 很大关 系 ， 这就解释 了 带膜表面上 点蚀并 不是 同时起源 的原 因 。 上述的 点蚀 过程应 当同样可 以解释 点 蚀 表面发生 的 再钝化现象 。 当表面 电位低 于 。 时 ， 反 应 便 不能 再 进行 ， 而是反应 和 ， 结果 使 点蚀表面发 生 了钝化 ， 蚀孔 不再发展 。 电 照 片 划痕上蚀杂处起源的点 一 ， 多 一。 ℃ ， 一 。 ， 一 位回 扫至保护 电位表 明 ， 生长着的 点蚀 钝化 了 。 因此 ， ， ，和 、 实际上 具有相 同 的 意 义 ， 其本质都是 使 一 离子维 持吸 附 ， 反 应 能够进行的 最低 电 位 。 ， 和 、 应 当 是 同一个特征 电位 。 这就可 以解释为 什么两 个电位非常 相近 表 ， 它 们 之 间的差值可 能主要 是 由于 点蚀 孔的发展 使 、 所对 应的环境条件与 ， ， 的 对应的条件 有所 不同而 引起 的 。 在 钝化膜所覆盖 的表面上 ， 发生 点蚀 同样应按上述反 应 历程进行 ， 只 不过 由于在这 ‘ 些膜的微缝隙 中存在的 电位降 ，外加 电位必须高于 ，、 才可能 使界面处 的 电位达 到 ， ， 。 因此带膜表面 的 点蚀 电位 就高于去膜 表面的 点蚀 电位 ， 。 表 对 于 点蚀 的形 成 ， 一 的主要作 用 就在 于能 使它 所 吸 附的位置 点不被 钝化而保 持溶 解活性 。 一 个基本 条件就是 电位须达到 临界 值 。 该值与金 属本身成分 ， 缺陷 、 一 离子浓 度 ， 温度等因素有关 。 点蚀 的 各种特征 电位 点蚀 电位 ， 保 护 电位 及裸表面 点蚀 电位等 都 是这 一 临界值的不同表现 。 当外界 因素的影 响较小时 ， 这些 电位就可 以 相等 。 这一推论 可用 于解释许 多文献〔 ， ， ‘ ， “ “ 〕报 导的 点蚀 电位和保 护 电位是 相 等这 一事实 。 实际上 ， 保护 电位及裸表面点蚀 电位是不受膜午扰的真正 的 点蚀 电位 ， 而在带膜表面上测 得的点 蚀 电位是受到膜状况的影响的 。 带膜表面 的 点蚀 电位一般 高于前两种特征电位是 由于膜 中微缺陷 里 的欧姆降引起的 。 因此可 以推知钝化 膜微裂纹较大 的金属或合 金其带膜表面 点蚀 电位与 去膜表面 点蚀 电位差距应该小 ， 因为其欧姆降小 。 文献 中报导的试 验事实的 确如此 ， 钝化膜微裂纹尺 寸较大 的 在水溶液 中的这 两 点蚀 电位基本 相 同〔，” 〕 。 对 于 一 合金 和 一 合金 ，， 也 发 现用 划破 电极方 法 ， 动 电位扫描方法及恒 电 流 方法 获得 的 点蚀 电位是 相同的 。 点蚀 起 漆位且和点蚀形貌 前述 的试验结果表明 ， 在去膜 不锈钢表面上 晶界的交界处 及夹杂处是 点蚀 的起源位 置 。 这与 文献〔 一 〕 结果 相似 。 。 等 〔 〕采用 砂纸打磨试 样表面获得去膜表面 的方法研究 了晶态和非 晶态合金 点蚀行为 他们发现在同样条件下非 晶态没有点蚀 ， 而类