Vol.15 No.6 李惑东等：用六价铬还原产物电镀铬 617· 到严重干扰，而且，由能谱分析证明，镀层可含有高达80%以上的铁，因此，F2+离子仅可在 低用量条件下做为辅助还原剂或氧化抑制剂使用。 然而，可从由CH,OH还原产物配制而成的镀液中获得令人满意的装饰铬镀层和硬铬 镀层。装饰铬镀层的表面形貌与常规的三价铬镀层一样，是微裂纹结构的。赫尔槽试验 表明，这种镀液的光亮区电流密度范围可以从常规镀液的6~10A/dm提高到20A/dm以 上，因此它具有更高的阴极电流效率。图4和图5分别是从氯化物体系和硫酸盐体系中所得 到的硬铬镀层的表面形貌和截面电镜照片。该类镀层结晶粗大，呈结瘤状结构，这是高镀速 情况下所得镀层的典型形貌，其镀速甚至可达2~3m/min。镀层的厚度可超过50~100um, 这是目前已知的三价铬镀层中最厚的镀层厚度之一。作者认为，C(Ⅲ)镀层难以增厚的主 要原因乃阴极析氢引起pH上升，继而形成羟络铬（Ⅲ）离子，并进一步缩合成多核配位化合 物，导致铬（Ⅲ）离子阴极放电困难所致。 图4氯化物体系硬铬镀层的表面(a)与截面(b)形貌 Fig.4 Morphology of surface (a)and cross-section (b)of hard chromium coating from chloride bath 图5硫酸盐体系硬铬镀层的表面(a)与截面(b)形貌 Fig.5 Morphology of surface (a)and cross-section (b)of hard chromium coating from sulphate bathV6 1 . 1 5 N b . 6 李 惠东等 : 用 六价铬还原产物 电镀铬 到严重 干扰 , 而 且 , 由能 谱分 析证 明 , 镀层 可 含有 高 达 80 % 以 上 的铁 , 因 此 , F e +2 离子 仅可 在 低用量 条件 下做 为辅 助还 原剂 或氧 化抑 制剂使 用 。 然 而 , 可从 由 C H 3O H 还原 产物 配制 而成 的镀 液 中 获得 令 人 满意 的 装 饰 铬 镀 层 和 硬铬 镀层 。 装 饰铬镀 层 的表 面形 貌与常 规 的三 价 铬镀 层一 样 , 是 微裂 纹 结 构 的 。 赫 尔槽 试 验 表明 , 这种 镀液 的光亮 区 电流 密度 范 围可 以 从常规镀液 的 6一 10 A / d耐 提 高到 20 A d/ 耐 以 上 , 因此它具有 更高 的阴极 电流效率 。 图 4 和 图 5 分别 是从氯化 物 体系 和 硫 酸 盐 体 系 中所 得 到 的硬铬 镀层 的表 面形 貌和 截面 电镜 照 片 。 该 类镀 层 结 晶 粗大 , 呈 结 瘤 状 结 构 , 这 是 高 镀 速 情况 下所 得镀层 的典型形 貌 , 其镀 速甚 至 可达 2一 3 召m /而n 。 镀 层 的厚度 可超 过 50 一 10 召m , 这是 目前 已 知 的三 价铬镀 层 中最厚 的镀 层厚 度之 一 。 作者 认 为 , C r ( m ) 镀层 难 以 增 厚 的主 要原 因乃 阴极 析氢 引起 p H 上 升 , 继而 形成 经 络 铬 ( 1 ) 离 子 , 并 进 一步 缩合 成多 核 配位 化 合 物 , 导致铬 ( l ) 离子 阴极放 电 困难所致 。 图 4 氯化物体 系硬铬镀层 的表面 ( a) 与截面 ( b )形貌 珑 . 4 M 明内咖留 of 刚面理 (a ) 川 d ~ 一 豁比0 11 ( b) of ha dr d m 犯云I功 姗自艰 仓阅1 动 I iOr de 加ht 到 5 硫酸盐体 系硬铬镀层 的表面 ( a 与截面( b )形貌 珑 . 5 入1 0 币阮卜犯y of , I由此 a( ) 田川 ~ 一 , 犯 柱朋 (b) of ha dr 功找旧 1 1切 ” 姗垃职 丘“ 1 1 刘口at 加 加伪