D0I:10.13374/j.issn1001-053x.1993.06.014 第15卷第6期 北京科技大学学报 Vol.15 No.6 1993年12月 Journal of University of Science and Technology Beijing Dec.1993 用六价铬还原产物电镀铬+ 李惠东·段淑贞** 张新 摘要：研究了不同还原剂与六价络的还原反应和各种反应条件对还原率的影响，讨论了反应历 程，确定了最佳反应条件。这种还原产物可以做为无毒性电镀铬的络源。使用这种三价铬化合物 进行了电镀试验，获得了厚度超过100m的镀层. 关键词：电镀络，氧化还原反应，工艺/三价铬 中图分类号：TQ153·11 Chromium Electroplating Using Reduced Product of Hexavalent Chromium Li Huidong*Duan Shuhen◆*Zhang Xin率* ABSTRACT Effects of different reducers as well as various reaction conditions on reducing of hexavalent chromium were investigated.The reaction process was discussed and the optimum reaction conditions were determined.The reaction product can serve as chromium source of nontoxic chromium plating and coating thicker than 100um was obtained. KEY WORDS:chromium electroplating,redox reactions,technology/trivalent chromium. 传统的六价铬镀铬工艺会造成严重的环境污染，从而使以无毒性三价铬盐为铬源的各种镀 铬新工艺获得了迅速发展山，21.目前虽已有多种三价铬电镀工艺问世，但尚存在许多问题， 如镀层色泽较暗、电效不高，特别是镀层不能任意增厚等、严重影响了该工艺的广泛应 用。其主要原因之一是所使用的铬离子源选择不合理。已有研究表明，使用C(T)还原得到 的C(Ⅲ)化合物比使用普遍铬盐效果更为理想，并且可以获得目前常规三价铬电镀工艺尚 无法得到的硬铬镀层！引。为此，本文研究了不同还原剂与六价铬的还原反应和各种反应条件 对还原率的影响，确定了最佳反应条件，并利用还原产物做为铬源进行了电镀试验，探讨了 新的镀铬工艺 1993-06-21收稿第一作者：男，3引岁、博士 +北京市自然科学基金资助项目 ·表面科学与腐蚀I程系(Department of Surface Science and Corrosion Engineering) *理化系(Department of Physical Chemistry)
第 巧 卷 第 6 期 1 9 9 3 年 12月 北 京 科 技 大 学 学 报 oJ u r n a l o f U ni v e SI iyt o f S a e n c e a n d T Ce h n o l o g y Be ij i n g V o l 。 15 N o 。 6 众犯 . 1 9 9 3 用六 价铬还原产物 电镀铬 + 李 惠东 ’ 段 淑 贞 势 ’ 张 新 . 甘 摘要 : 研究了不 同还 原剂 与六价铬 的还原反 应和 各种 反应 条件 对还 原 率 的影 响 , 讨 论 了 反应 历 程 , 确定 了最佳反 应条件 . 这种还 原产物可 以 做为无毒性 电镀 铬的铭源 . 使用 这种三价铬化合物 进行 了 电镀试验 , 获得 了厚度超过 l田 娜n 的镀层 . 关镇词 : 电铰铬 , 氧 化还原反应 . 工艺 / 三价铬 中图分类号: T Q 1 5 3 · 1 1 C hr o 而um E I。 沈or p al it gn sU ign R de u 以对 P or d u cL t o f H xe a va l e nt C hr o 而 u l n 十 LI H “ 过闭g * uD an hS u : h例 * * Z ha gn 为 刀 * * AB S T R A C T : E巧比ts of d江re 代滋t r仪l u c e IS as 叭℃U as va ior 仍 心面。 n co n id it ons o n 阁 u d gn of h xe a va len t ch ID 而unL 认吧re in ve ist g at de . Tb e are 以io n p or 仪写s 场. s d 舀c u 骆时 a dn t h e 。 tP ~ 尚d i o n co dn it o ns 场吧re d e t e r 苗n de . hT e are ct i o n p m d utC ca n se r v e as ch or 而utn os u吐 o f n o n ot x i e ch or 而u m P al t i n g a n d co a it n g t h ic k er t ha n l X() lI m aws o b at i n de . KE Y W O R I万 : c 加旧而uln d 。沈or lP iat gn , 耐ox 心ct io ns , tce h n o fo gy / itr va len t ch DI 而um . 传 统 的六价 铬镀铬工 艺会造成 严重 的环境污 染 , 从而使以无毒性 三价 铬盐 为铬源 的各种镀 铬 新工 艺 获得 了迅 速发 展 l ’ , 2 ] 。 目前虽 已 有 多种 三价 铬 电镀 工 艺 问世 , 但 尚存 在许多 问题 , 如镀层 色泽 较 暗 , 电效 不高 , 特 别 是 镀层 不 能 任 意增 厚等 、 严重影 响 了 该 工 艺 的 广 泛 应 用 。 其主要 原因之一 是 所使用 的铭 离 子 源选 择不 合理 。 已 有研究 表 明 , 使用 由C r ( VI ) 还原得到 曲 Cr ( m ) 化合物 比使用普遍 铬盐 效 果更 为理 想 , 并且 可 以 获得 目前 常 规三 价 铬 电镀 工艺 尚 无法得 到 的硬 铬镀 层 [ ’ ] 。 为此 , 本 文研 究 了不 同还 原剂 与六 价铬 的 还原反 应和 各种 反应条件 对还 原率 的影 响 , 确 定了 最佳反 应 条件 , 并利 用还 原产 物做为铬源进行 了 电镀试验 , 探讨了 新 的镀铬 工艺 。 1 9 9 3 一 0 6 一 2 ! 收 稿 第一作 者 二 男 , 引 岁 , 十 北京 市 自然科学基金资助 项 目 . 表面 科学 与腐蚀工 程 系 ( D eP a lnrt en t of s u ir b沈 二 理 化 系 ( 氏 P抓湘 n t o f P h” 蜘I C比 m招t尽 ) 博士 S a e n c e a n d C o r osr 咖 E gn 云比面 n g ) DOI: 10. 13374 /j . issn1001 -053x. 1993. 06. 014
Vol.15 No.6 李惠东等：用六价铬还原产物电镀铬 615· 1实验内容与方法 由于全部还原反应产物直接用于配制镀液，还原剂的氧化产物和相关副反应产物及反应 残留物应不对电镀过程和所得镀层质量产生：不良影响，考虑到工艺的实用性，本文选用甲 醇、乙醇和亚铁盐做为六价铬（铬酐）的还原剂、测定了包括温度、反应时间、各反应物浓 度等在内的各种主要反应条件对还原率的影响。还原率的测定是根据反应前后C+与C3+ 比的变化计算得到的。C6+的浓度用硫酸亚铁铵氧化还原滴定法测定；C3+则先用过硫酸铵 氧化成六价铬后，再测定其浓度。 电镀试验是在下述两种镀液中进行的： (1)装饰铬镀液(mol/1): Cr3+(由CrO3还原得到)-0.4，HC00-0.6,CH,C00-0.2,Br-02, NH,C+KC1-3.5,HB03-0.8,pH-2.8~3.6,Dk-2~20A/dm2。 (2)硬铬镀液(mol/I): Cr3+(由CO3还原得到)-1.2、H+-1、K++NH,-1、C-5.6(氯化物体系)或 S0,2-2.8(硫酸盐体系)，pH-0.1~1.0,D-25~125A/dm2。 2实验结果与讨论 2.1六价铬还原反应研究 图1至图3分别是反应时间、反应温度和各反应物初始浓度对甲醇还原CO,还原率的 影响。 甲醇与铬酐之间的反应按以下3个步骤进行（铬酐在酸性溶液中以铬酸的形式存在）： 100 680 40 农 0 0 8 1624324048 t/h 图1反应时间对还原率的影响 Fig.1 Effect of reaction time on percent reduction 2CrO,2+3CHOH+10H+-·2Cr3++3HCH0+8H,0 (1) 2Cro+3 HCHO+10H-2 Cr3*+3 HCOOH+8 H,O (2) 2C0,2+3 HCOOH+10H+→2Cr3++3C02↑+8H,0 (3) 由实验结果分析可知，铬酐还原反应将主要进行到CH,OH被氧化成CO,的步骤。上述反 应中，反应(1)和(2)是快反应，反应(3)是慢反应。在适当的反应条件下，可以使整
V OI . 15 N b . 6 李 惠东等 : 用六 价铬还原产物 电镀铬 1 实 验 内容与方 法 由于 全部 还原 反应 产物 直接用 于配 制镀 液 , 还原 剂 的氧化产物和 相 关副 反应产物及 反 应 残 留物 应 不对 电镀过 程 和所得镀层 质量 产生 不 良影 响 , 考虑 到工艺 的实 用性 , 本 文 选用 甲 醇 、 乙醇和 亚铁盐做为六价 铬 (铬 醉 ) 的还 原剂 , 测 定 了包括温度 、 反应 时 间 、 各反 应物浓 度等 在 内的各 种 主要 反应条 件 对还 原率 的影 响 。 还 原 率的 测 定 是 根据 反 应 前后 Cr “ + 与 Cr 3 + 比的变化 计算 得到 的 。 Cr 6 + 的 浓度 用硫 酸亚铁钱氧化还 原滴定 法测 定 ; C r 3 十 则先 用过硫酸钱 氧化成六 价铬 后 , 再测 定其浓 度 。 电镀 试验是在下述 两种 镀液 中进 行的 : ( l) 装饰 铬镀液 (mo l/ 1) : Cr +3 ( 由 C r O 3 还 原得到 ) 一 .0 4 , H C O O 一 .0 6 , C H 3C O O 一 .0 2 , Br 一 -0 2 , N H .CI + K CI 一 3 . 5 , H 尹0 3一 0 . 8 , p H 一 2 . 8 一 3 . 6 , D 、 一 2 一 ZO A / d时 。 ( 2) 硬铬镀 液 ( noI l/ 1 ) : e r , + ( 由 e OI 3 还 原 得到 ) 一 1 . 2 、 H 十 一 l 、 K + + N H 绍+ 一 l 、 。 一 5 . 6 ( 氯 化物 体 系 ) 或 5 042 一 2 . 8 ( 硫 酸 盐体系 ) , p H 一 0 . 1 一 1 . 0 , 从 一 2 5 一 I 2 5 A / d耐 。 2 实 验 结 果 与讨 论 2 . 1 六价铬还原反 应研究 图 1 至 图 3 分 别是 反应时 间 、 反 应温度 和各反 应 物 初 始浓 度对甲 醇还 原 C Or 、 还原 率 的 影 响 。 甲醇与 铬 醉之 间的 反应 按 以 下 3 个步 骤进 行 (铬 配在 酸 性 溶液 中 以 铬 酸 的 形 式存在 ) : J l }I }l l ~ . 曰 . , ~ 一一 ~ . 一 . ~ 口 劝 比卜~ 一 叫 ! 广 ’ 0840 0 岁 . 哥暇瑞 4 8 40 2 24hlt 户O 图 1 反应 时间对还原 率的影响 瑰 . I E 旋以 of 民 , 币加 丘拙 佣 详 , ” 盆 魂止笙丘犯 Z C OI 犷 一 + 3 C H p H + IO H + 一 Z rC , + + 3 H C H O + S H户 ( l ) Z C到3犷 一 + 3 H C H O + 10 H + 一一 2 C r , + + 3 H C O O H + S H户 ( 2 ) Z C Or 犷 一 + 3 H C O O H + I OH + 一 2 C r , + + 3 C o : 个 + S H户 ( 3 ) 由实验 结果分 析可知 , 铬 配还 原反 应 将主要 进行 到 C H户H被氧 化成 C O : 的 步 骤 。 上 述 反 应 中 , 反应 ( l) 和 ( 2) 是快反 应 , 反应 ( 3) 是 慢反应 。 在适 当的 反 应条件 下 , 可 以 使 整
.616 北京科技大学学报 I993年No.6 CH,OH/ml·1 HS04/ml·I-1 0 10 0 20 3040 50 50 7090 100 100 80 80 蓝 0 ⊙ 020 00 406080 40 80120 160200 T/C C0/g·11 图2反应温度和酸度对还原率的影响 图3铬酐和甲醇浓度对还原率的影响 Fig.2 Effect of reaction temperature and acidity Fig.3 Effect of concentration of CrO,and on perce球eduction CH,OH ou percent reduction 个反应进行到CH,OH被完全氧化的程度。这一结果对后续进行的三价铬电镀是非常有利 的，因为在酸性条件下，氧化终产物CO2将儿乎全部从溶液中逸出，而不会引起反应副产 物及残留物对电镀过程产生不良影响。这样，还原反应的总反应式可以写为： 2CO3+CH,OH+6H*·2Cr3++CO2↑+5H,0 (4) 以此为依据，确定以CH,OH为还原剂制备电镀用三价铬化合物的工艺条件为：CO,初始 浓度：100~I50g/1;H(HC或HSO,)初始浓度：等于反应(4)的化学计量；CH,OH 用量：等于反应(4)化学计量的120%；反应温度：≥40℃；反应时间：≥10h. 类似地，用乙醇还原六价铬时，也可以得到与甲醇做为还原剂时相似的结果。但是，由 于CHOH分子中出现了C-C键，C(T)的氧化能力不足以将其打断，因此，它与铬酐的 反应只能进行到氧化产物为CH,COOH的步骤，在实验结果中表现为还原率几乎不受时间因 素的影响。其整个反应过程可表示为： 4 CrO,+3 C.H,OH+12H*-4 Cr++3 CHCOOH+9 H,O (5) 还原反应的条件与前者相似。 亚铁离子在酸性条件下与Cr+的反应是完全的，氧化终产物为F3+: CrO,+3Fe2++6H+一→Cr3++3Fe3++3H,0 (6) 因此，可以用F2+完全还原前述体系中残留的微量Cr+,以消除Cr+对Cr+电镀的不 利影响。 2.2六价铬还原产物电镀铬 用CHOH还原Cr(I)得到的还原产物中含有大t的CH,COOH。由于Cr(Ⅲ)离子 具有相当强的正电场和空的d轨道，因此易于与CH,COOH等配位体形成相当稳定的配位化 合物，并能生成桥联多核配位化合物.这些铬离子由于其稳定性和空间结构所造成的困难， 较难在阴极上放电。因此，从以这种还原产物配制而成的镀液中难以获得令人满意的镀铬 层，而且镀液的分散能力也相当差，在镀硬铬的情况下尤其如此。 全部由亚铁盐还原产物所构成的镀液，因有大量的铁离子存在，使C+的电沉积过程受
6 16 J七 京 科 技 大 学 学 报 t卯 3 年 N 6 . 6 CH 夕H I创 . 1 一 , H声.o /回 · l 一 , J 二笋 , 嘴多通 岁 尸 .~ 一 0 10 20 3 0 40 匆 荞 80 一 月尸曰 l 浏丫 }L 护节 r , l 一 厂2 r . 陇旧哥 T/ ℃ C幻 , / 9 . 1 一 , 图 2 反应沮度和酸度对还原率 的影晌 圈 3 铭研和 甲醉浓度对还原率的影晌 瑰 . 2 目碗d ` 川欢份. 恤卿旧, 加比 . 回 鱿洒勺 瑰 . 3 1肠对 成 。 知曰国自. 幽. 试 C心 J . 目 . 叫份盆 魄止` 台. C H J O H . 脚城” 吐 砚山目自. 个反应进行 到 C H p H 被 完全 氧化的程度 。 这一 结 果 对后 续进 行 的三 价 铬 电镀 是 非 常有利 的 , 因 为在酸性条件下 , 氧化终 产物 C O : 将 儿 乎 全 部从 溶 液 中逸 出 , 而 不 会 引起 反 应 副产 物及 残留物对 电镀过 程产 生 不 良影 响 。 这样 , 还 原反 应的总 反应 式 可以 写 为 : 2 c OI 3+ C H户H + 6 H + — 2 C r , + + C O : 个 + S H户 ( 4 ) 以 此 为依据 , 确 定 以 C H户 H 为还 原剂 制 备 电镀 用 三 价铬 化 合物 的 工 艺 条 件 为 : C 心 : 初 始 浓 度 : 10 一 15 0 9 / l ; H + ( H CI 或 H Z s O 4 ) 初始 浓度 : 等于反 应 ( 4 ) 的 化学 计量 ; C H 户H 用量 : 等于 反应 ( 4) 化学 计量 的 120 % ; 反 应温度 : ) 40 ℃ ; 反应 时 间 : ) 10 .h 类 似地 , 用乙 醇还 原六价 铬时 , 也可以 得 到 与 甲醇做 为还原 剂 时相 似 的 结 果 。 但 是 , 由 于 C月p H 分 子 中出现 了 C 一 C 键 , C (r W ) 的 氧化能力 不足 以将其打 断 , 因此 , 它 与铬 酥 的 反 应只 能进行到 氧 化产 物 为 C H厂0 0 H 的步骤 , 在实 验结 果 中表现 为还 原率 几 乎不 受时 间因 素的影 响 。 其 整个 反 应过 程可 表示 为: 4 C OI 3 + 3 C尹 p H + 12 H + — 4 C r , + + 3 C H 3C ( X ) H + 9 H p ( 5 ) 还 原反 应的条件 与前者相 似 。 亚 铁离 子 在酸 性 条件下 与 C r “ 十 的反应 是 完全 的 , 氧 化 终 产物 为 eF ’ 十 : e 心 3 + 3 eF , + + 6H 十 一~ C r , + + 3 Fe , + + 3 H户 ( 6 ) 因此 , 可 以 用 F 扩 + 完 全还 原前 述体 系中残留的 微量 C r “ + , 以 消除 C r 6 十 对 C r , + 电 镀 的 不 利影 响 。 2 . 2 六价 铬还原 产物 电镀铬 用 C尹 5 0 H 还原 C r ( VI ) 得到 的还 原产 物 中含 有 大 量的 C H 」 C O O H 。 由于 C r ( 1 ) 离 子 具 有相 当强 的 正 电场 和空 的 d 轨 道 , 因 此易于 与 C H 3C 0 0 H 等 配位 体形 成 相 当稳 定 的 配 位 化 合 物 , 并能 生成 桥联 多核配 位 化合物 。 这些铬 离 子 由于其稳定 性 和空 间 结 构 所造 成 的 困难 , 较难在 阴极 _ t 放 电 。 因此 , 从 以 这 种 还 原 产 物 配 制 而 成 的镀 液 中难 以 获 得 令 人 满 意 的 镀铬 层 , 而且 镀液 的分 散 能力也相 当差 , 在镀 硬铬 的情 况下 尤其 如此 。 全 部 由亚铁 盐还 原产 物所构 成 的镀 液 , 因有 大量 的铁 离 子 存 在 , 使 C 3r 辛 的 电 沉 积 过 程 受
Vol.15 No.6 李惑东等：用六价铬还原产物电镀铬 617· 到严重干扰，而且，由能谱分析证明，镀层可含有高达80%以上的铁，因此，F2+离子仅可在 低用量条件下做为辅助还原剂或氧化抑制剂使用。 然而，可从由CH,OH还原产物配制而成的镀液中获得令人满意的装饰铬镀层和硬铬 镀层。装饰铬镀层的表面形貌与常规的三价铬镀层一样，是微裂纹结构的。赫尔槽试验 表明，这种镀液的光亮区电流密度范围可以从常规镀液的6~10A/dm提高到20A/dm以 上，因此它具有更高的阴极电流效率。图4和图5分别是从氯化物体系和硫酸盐体系中所得 到的硬铬镀层的表面形貌和截面电镜照片。该类镀层结晶粗大，呈结瘤状结构，这是高镀速 情况下所得镀层的典型形貌，其镀速甚至可达2~3m/min。镀层的厚度可超过50~100um, 这是目前已知的三价铬镀层中最厚的镀层厚度之一。作者认为，C(Ⅲ)镀层难以增厚的主 要原因乃阴极析氢引起pH上升，继而形成羟络铬（Ⅲ）离子，并进一步缩合成多核配位化合 物，导致铬（Ⅲ）离子阴极放电困难所致。 图4氯化物体系硬铬镀层的表面(a)与截面(b)形貌 Fig.4 Morphology of surface (a)and cross-section (b)of hard chromium coating from chloride bath 图5硫酸盐体系硬铬镀层的表面(a)与截面(b)形貌 Fig.5 Morphology of surface (a)and cross-section (b)of hard chromium coating from sulphate bath
V6 1 . 1 5 N b . 6 李 惠东等 : 用 六价铬还原产物 电镀铬 到严重 干扰 , 而 且 , 由能 谱分 析证 明 , 镀层 可 含有 高 达 80 % 以 上 的铁 , 因 此 , F e +2 离子 仅可 在 低用量 条件 下做 为辅 助还 原剂 或氧 化抑 制剂使 用 。 然 而 , 可从 由 C H 3O H 还原 产物 配制 而成 的镀 液 中 获得 令 人 满意 的 装 饰 铬 镀 层 和 硬铬 镀层 。 装 饰铬镀 层 的表 面形 貌与常 规 的三 价 铬镀 层一 样 , 是 微裂 纹 结 构 的 。 赫 尔槽 试 验 表明 , 这种 镀液 的光亮 区 电流 密度 范 围可 以 从常规镀液 的 6一 10 A / d耐 提 高到 20 A d/ 耐 以 上 , 因此它具有 更高 的阴极 电流效率 。 图 4 和 图 5 分别 是从氯化 物 体系 和 硫 酸 盐 体 系 中所 得 到 的硬铬 镀层 的表 面形 貌和 截面 电镜 照 片 。 该 类镀 层 结 晶 粗大 , 呈 结 瘤 状 结 构 , 这 是 高 镀 速 情况 下所 得镀层 的典型形 貌 , 其镀 速甚 至 可达 2一 3 召m /而n 。 镀 层 的厚度 可超 过 50 一 10 召m , 这是 目前 已 知 的三 价铬镀 层 中最厚 的镀 层厚 度之 一 。 作者 认 为 , C r ( m ) 镀层 难 以 增 厚 的主 要原 因乃 阴极 析氢 引起 p H 上 升 , 继而 形成 经 络 铬 ( 1 ) 离 子 , 并 进 一步 缩合 成多 核 配位 化 合 物 , 导致铬 ( l ) 离子 阴极放 电 困难所致 。 图 4 氯化物体 系硬铬镀层 的表面 ( a) 与截面 ( b )形貌 珑 . 4 M 明内咖留 of 刚面理 (a ) 川 d ~ 一 豁比0 11 ( b) of ha dr d m 犯云I功 姗自艰 仓阅1 动 I iOr de 加ht 到 5 硫酸盐体 系硬铬镀层 的表面 ( a 与截面( b )形貌 珑 . 5 入1 0 币阮卜犯y of , I由此 a( ) 田川 ~ 一 , 犯 柱朋 (b) of ha dr 功找旧 1 1切 ” 姗垃职 丘“ 1 1 刘口at 加 加伪
618. 北京科技大学学报 1993年No.6 3结论 (1)在适当条件下，甲醇可以将六价铬还原为三价铬，甲醇的氧化终产物为C0,乙 醇同样具有这种还原能力，但氧化终产物为乙酸。 (2)由甲醇还原六价铬得到的三价铬化合物是良好的电镀用C(Ⅲ)离子源，可用于配 制各种三价铬电镀溶液. (3)从由还原的三价铬离子配制而成的具有适当组成的低pH值镀液中，可以获得厚 度达50~1004m的硬铬镀层. 参考文献 1 Snyder D L.Products Finishing,1989,54(8):61 2冯小龙，火时中.材料保护，1993,26(1)：20 3 Benaben P.Plating and Surface Finishing,1989,76(11):60 电冰箱压缩机上下壳焊接专用设备 电冰箱压缩机上下壳焊接专用设备是生产压缩机最后一道加工工序的关键设备，它应用 了机、电、气、焊一体化综合技术。其中：(1)机械系统，自行设计了特殊的集定位与夹紧 于一体的对中夹紧装置，其定位精度高，夹紧可靠，能确保上下壳间焊缝的焊接质量。设计 的双机械手用于准备工位、焊接工位和卸料工位的三个工位之间的工件搬运。(2)电气控制 系统，采用可编程控器控制，开发了各种控制软件，使设备具有断气、断水、断丝等各种 报警功能，并研制出非接触式光电传感器，用于控制焊接工作台的驱动电机的变速旋转、确 保焊接椭圆形焊接速度恒定。(3)焊接电源，采用有标准焊和脉冲焊两种方式的焊接电源， 应用脉冲焊能确保焊接质量和使焊缝搭接段平整光滑。(4)气控系统，将管式阀改制成板式 连接阀，使气动系统管路简化，结构紧凑。 该机具有完整的自动工作循环，生产率达95件/h以上，产品合格率达98%以上。新 型压缩机壳焊接设备投产运用，使该厂产量每年增产30万台，取得很好的经济效益
6 1 北 京 科 技 大 学 学 报 卯 6 年1 N 8 3 . 6 结 论 3 ( ) 在适 当条件下 l , 甲醇 可 以 将六 价铬还 原 为 三 价 铬 , 甲醇 的 氧 化 终产 物 为 C 0 2 . 乙 醇同 样具有 这种 还 原能力 , 但 氧化终 产物 为 乙 酸 。 ( 2) 由 甲醇还原六 价铬得到 的 三价铬 化合物是 良好的 电镀 用 C (r l )离 子 源 , 可 用于 配 制 各 种三 价铬 电镀溶液 。 ( 3) 从 由还原的三 价铬离子配 制而成的具有适 当组成 的 低 p H 值 镀液 中 , 可 以 获得 厚 度达 50 一 10 1皿 的硬铬 镀层 。 参 考 文 献 1 S n dy e r D L . P代心u a 匕 F in is h j n g , 1 98 9 , 54 ( 8 ) : 2 冯小 龙 , 火时 中 . 材料保护 , 1 9 9 3 , 2 6 ( l ) : 2 0 3 D m a be n P . R a 石n g a n d s u d触ce F i n is ih n g , 1 9 8 9 , 7 6 ( 1 1 ) : 印 电冰箱压缩机上下 壳焊接专用 设备 电冰箱压 缩机上 下壳焊接专用设 备是 生产压缩机最后 一道 加 工工 序的 关键设备 , 它 应 用 了机 、 电 、 气 、 焊一 体化综合技术 。 其 中: ( l) 机械 系 统 , 自行设计 了特殊 的集定位 与夹紧 于 一体的对中夹紧装置 , 其定 位精 度 高 , 夹紧可 靠 , 能 确保上 下壳 间焊缝的焊 接质 量 。 设计 的 双机械手 用于 准备工位 、 焊接工 位 和卸料 工位的三 个工 位 之 间的 工件搬运 。 ( 2) 电气控制 系 统 , 采用 可编 程控器 控制 , 开发 了各 种控 制 软件 , 使设 备具有 断 气 、 断水 、 断 丝 等各种 报 替功 能 , 并研制 出非接 触式光 电传感器 , 用于 控制 焊接工 作台 的驱 动电机 的变速 旋转 、 确 保焊接 椭圆形 焊 接速 度恒定 。 ( 3) 焊接 电源 , 采 用有 标 准焊 和脉 冲 焊 两 种 方式 的焊 接 电 源 , 应 用脉 冲焊能确 保焊接质 量和 使焊缝搭接 段平整 光滑 。 (4) 气控 系统 , 将 管式 阀改 制成板式 连 接阀 , 使气动 系统 管路 简化 , 结构 紧凑 。 , . 该 机具 有完 整的 自动工 作循 环 , 生 产 率达 95 件 / h 以 上 , 产 品合 格 率 达 98 % 以 上 。 新 型 压缩 机壳焊接 设备投产运 用 , 使该 厂产 量每年增产 30 万 台 , 取 得很 好的 经济效 益
