PVD物理镀层方法 WQM35 物理气相沉积是一种固 态的金属反应成分的过 程,例如钛。物理气相 沉积一般有真空中蒸发 沉积、溅射、离子镀三 种将固态镀层材料气化 N 的方法。 回囗y 由于PVD工艺温度低, e③ 不会降低硬质合金 T 刀片自身的强度, 刀片刃部可磨得十 分锋利,从而可降 低机床的功率消耗。物理气相沉积是一种固 态的金属反应成分的过 程，例如钛。物理气相 沉积一般有真空中蒸发 沉积、溅射、离子镀三 种将固态镀层材料气化 的方法。 由于PVD工艺温度低， 不会降低硬质合金 刀片自身的强度， 刀片刃部可磨得十 分锋利，从而可降 低机床的功率消耗。 PVD物理镀层方法 WQM35