表1脱硅处理所用工艺参数及结桌 Table 1 Conditions and results of desiliconizing treatmert Metal Compositions,% Salg composition,% Conditions C Si Mn P S Nb Ti S Fe0 Mno NbaC Ti:Cao Al203 Before treatment4.020.431.500,530,0260.0960.048 After treatment3.730.131.070.540.0210.0880.0140,2434.2134.260.463.914.483.22 2 数学模型的建立 在模型的推出过程中，有以下两个假定： (1)脱硅炉内铁水和炉渣成分均匀。 (2)反应物或反应产物由铁水、炉渣内部向反应界面或由反应界面向铁水，炉液内 部的传质为反应的限制性环节。 对于间歇式反应器内进行的反应，在不超过热力学平衡的限度以内，反应进行的程 度主要取决于反应速度和反应持续的时间。对于连续式反应器体系，反应效率则取决于 反应速度以及反应介质在反应器内的停留时间，合理地调配反应速度与停留时间二者之 间的关系即可以使反应达到所希望的效率。 在铁水连续处理过程中，对其中任一组元j,由物质平衡可导出以下关系： 流人速度」一流出速度=消耗速度j (1) 取反应界处任-~微元dv,并没流体在小微元内的停留时间为dt,由(1)式可得出： dv.(cj,in-cj,nut)/dt=ri.dv (2) 取dc;=c,out-ci,in根据假定2又有：ridv=dA·kj(c;-c;),代入(2)式可得， -dv.dc=dA.k;(cj-c;") .(8) dt 对(3)式积分： ∫-d=ke,-eaA (4) 由假定1可知，炉内各组元浓度与位置无关，因此得出： -V.dci=A.kj(cj-ci") (5) dt (5)式即为本模型中表示反应速度与停留时间关系的基本表达式。 在铁水脱硅阶段，主要有以下反应发生： CSi)+2[0]=(Si0,), △G°=-576440+218.2T:31 CMn)+〔o)=(Mno), △G°=-295080+129.83T4 〔c)+〔0]=(0， AG°=+22200-38.34T.3) 19表 脱硅处砚所用 工艺参数及结 集 么 冬 时 以臼圣 恤 侧两州勿 一 弘 ， － 一 － 一 ， 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 数学模型的建立 在 模型 的推 出过 程 中 ， 有 以下 两个假 定 脱硅 炉 内铁 水和炉 渣 成分 均匀 。 反 应物或 反 应 产物 由铁 水 、 炉 渣 内部 向反 应 界面或 由反 应界面 向铁 水 ， 炉 汽内 部的传质 为反 应 的限制性环节 。 对 于 间歇式 反 应 器 内进行 的反 应 ， 在 不超 过热 力学平衡 的限度 以 内 ， 反 应进行 的程 度主 要取 决于 反 应速 度和反 应持续 的时 间 。 对于连续 式反 应器体 系 ， 反应效率则取决 干 反 应速度 以及反 应介质在反 应器 内的停 留时 间 ， 合理地调 配 反应速 度 与停 留时间二 者之 间的关 系即可 以使反 应达 到所 希 望的效率 。 ‘ 在铁 水连续处 理 过程 中 ， 对其 中任 一组元 ， 由物质 平衡可 导 出以下关 系 流 人速 度 一 流 出速度 消耗 速 度 取反 应界处 任 一微元 ， 并没流 体在小微元 内的停 留时 间 为 ， 由 〔 式可 得 出 · ， 。 一 ， 。 ，· 取 ， 。 、 ， 。 一 、 ， 、根 据 假 定 又 有 · · 一 ， 代人 式可 得 一 · 备 · · ‘一 ，” 对 式积分 丫 「 ， ， 一 －－ 弓 一 夕 才 由假定 可 知 ， 炉 内各组 元浓 度与位置 无 关 ， 因此 得 出 。 一 一一二 一 才飞 亏 叹 一 式 即 为本 模 型 中表示 反 应速度与停 留时间关 系的基本 表达式 。 在铁 水脱硅 阶段 ， 主 要有 以下反 应发生 〔 〕 〔 〕 ， 八 ‘ ’ ， 赴 ’ 〔 〕 〔 〕 ， 八 “ 一 ‘ 〕 〔 〕 〔 〕 二 ， 八 ‘ ’ ‘ 一 、 」