正在加载图片...
·1660 北京科技大学学报 第36卷 形成的分子式为Na2(Al02)(SiO,)]2·27H20的 筛的基本结构单元B笼或者少量的4A分子筛.通 聚合物.当n(H20)/n(Na20)=60~100时,图中 过不同水钠比条件下制备的产物的扫描电镜照片对 立方晶体数量明显增多,说明4A分子筛己成为最 比可知:在n(H,0)/n(Na20)=80时得到的4A分 终产物的主体,这与X射线衍射分析完全吻合.不 子筛晶体尺寸较小,且棱角规则:在n(H,0)/ 过,随着水钠比的进一步提高,图中立方晶体数量先 n(Na,0)=100时制备的4A分子筛晶体轮廓清晰, 增多后减少,原因可能是钠水比的变化改变了反应 但晶体尺寸较大;在n(H,0)/n(Na,0)=60时制备 溶液的碱度,在碱度适宜的条件下,有利于硅铝酸盐 得到的产物棱角已有轻微的腐蚀,可能是由于反应 凝胶的解聚,进而有利于4A分子筛的合成.但碱度 碱度太高,不利于4A分子筛的稳定存在.图6中不 过高时,4A分子筛又开始受到侵蚀,所形成的立方 同水钠比条件下制备得到的4A分子筛结品性与图 晶体棱边己不再是棱角分明的规则状,甚至有部分 5中X射线衍射分析相同,说明采用碱熔渣的水浸 晶化形成的4A分子筛发生分解,重新转变为构成 液在n(H20)/n(Na20)=80条件下更有利于晶化 4A分子筛的基本结构单元B笼或者无定形硅铝酸 合成结晶性较好的4A分子筛 盐.当n(H,0)/n(Na,0)=120时,图中多数为絮 2.2.3反应时间的影响 状的团聚物,只有少量的立方晶体包裹在无定形絮 为了研究不同反应时间对制备4A分子筛的影 状物中.说明此时溶液碱度较低,无法使形成的硅 响,实验中调整n(Si02)/n(AL,03)=2,n(H,0)/ 铝酸盐初始凝胶完全解聚重构,只能形成4A分子 n(Na20)=80,并且在100℃条件下控制回流反应 (a) 24m 图6不同水钠比条件下所得产物的扫描电镜照片.(a)40:(b)60:(c)80:(d)100:(c)120 Fig.6 SEM images of products obtained at different n(H2O)/n (Na2O)values:(a)40:(b)60;(c)80:(d)100:(e)120北 京 科 技 大 学 学 报 第 36 卷 形成的分子式为 Na12[( AlO2 ) ( SiO2) ]12·27H2O 的 聚合物. 当 n( H2O) /n( Na2O) = 60 ~ 100 时,图中 立方晶体数量明显增多,说明 4A 分子筛已成为最 终产物的主体,这与 X 射线衍射分析完全吻合. 不 过,随着水钠比的进一步提高,图中立方晶体数量先 图 6 不同水钠比条件下所得产物的扫描电镜照片. ( a) 40; ( b) 60; ( c) 80; ( d) 100; ( e) 120 Fig. 6 SEM images of products obtained at different n( H2O) /n( Na2O) values: ( a) 40; ( b) 60; ( c) 80; ( d) 100; ( e) 120 增多后减少,原因可能是钠水比的变化改变了反应 溶液的碱度,在碱度适宜的条件下,有利于硅铝酸盐 凝胶的解聚,进而有利于 4A 分子筛的合成. 但碱度 过高时,4A 分子筛又开始受到侵蚀,所形成的立方 晶体棱边已不再是棱角分明的规则状,甚至有部分 晶化形成的 4A 分子筛发生分解,重新转变为构成 4A 分子筛的基本结构单元 β 笼或者无定形硅铝酸 盐. 当 n( H2O) /n( Na2O) = 120 时,图中多数为絮 状的团聚物,只有少量的立方晶体包裹在无定形絮 状物中. 说明此时溶液碱度较低,无法使形成的硅 铝酸盐初始凝胶完全解聚重构,只能形成 4A 分子 筛的基本结构单元 β 笼或者少量的 4A 分子筛. 通 过不同水钠比条件下制备的产物的扫描电镜照片对 比可知: 在 n( H2O) /n( Na2O) = 80 时得到的 4A 分 子筛 晶 体 尺 寸 较 小,且 棱 角 规 则; 在 n ( H2O) / n( Na2O) = 100 时制备的 4A 分子筛晶体轮廓清晰, 但晶体尺寸较大; 在 n( H2O) /n( Na2O) = 60 时制备 得到的产物棱角已有轻微的腐蚀,可能是由于反应 碱度太高,不利于 4A 分子筛的稳定存在. 图 6 中不 同水钠比条件下制备得到的 4A 分子筛结晶性与图 5 中 X 射线衍射分析相同,说明采用碱熔渣的水浸 液在 n( H2O) /n( Na2O) = 80 条件下更有利于晶化 合成结晶性较好的 4A 分子筛. 2. 2. 3 反应时间的影响 为了研究不同反应时间对制备 4A 分子筛的影 响,实验中调整 n( SiO2 ) /n( Al2O3 ) = 2,n( H2O) / n( Na2O) = 80,并且在 100 ℃ 条件下控制回流反应 · 0661 ·
<<向上翻页向下翻页>>
©2008-现在 cucdc.com 高等教育资讯网 版权所有