薄膜沉积与其刻蚀技术 ■有时,并不满足于使用简单形态的薄膜,而需要 对薄膜进行有目的的加工,形成特定的图形 ■对材料的表层(薄膜)进行显微加工,即它的图 形化,需要使用表面刻蚀技术 对应于制备薄膜材料的CVD、PVD技术,则有 化学的、物理的表面刻蚀方法;在某种意义上, 刻蚀过程是薄膜沉积过程的逆过程 ■半导体工业的高速发展是表面刻蚀技术的主要推 动力,它应用的是光刻的方法◼ 有时，并不满足于使用简单形态的薄膜，而需要 对薄膜进行有目的的加工，形成特定的图形 ◼ 对材料的表层（薄膜）进行显微加工，即它的图 形化，需要使用表面刻蚀技术 ◼ 对应于制备薄膜材料的CVD、 PVD技术，则有 化学的、物理的表面刻蚀方法；在某种意义上， 刻蚀过程是薄膜沉积过程的逆过程 ◼ 半导体工业的高速发展是表面刻蚀技术的主要推 动力，它应用的是光刻的方法 薄膜沉积与其刻蚀技术