基准态是与系统具有相同T、相同P和同一相态的纯i组分,故: 1=件/xf (2-19) 式中升为纯液体组分i在T、P下的逸度 1五=a,由式(2-16)得 RT RT P"R7Jb(号 dP+ P -Ino +(P-P')_ne RT 则纯液体组分i在T、P下的逸度: =Pos·ex(p-P/Rr」 (2-21) 式中v4是纯组分i在T、P下的摩尔体积:P为相应的纯组分i的饱和蒸汽压 Φ;为校正处于饱和蒸汽压下的蒸汽对理想气体的偏离:指数校正项也称普瓦廷 ( Poynting)因子,是校正压力偏离饱和蒸汽压的影响 (2)不凝性组分的基准态逸度 对于不凝性组分,活度系数的基准态 当x1→0时,y*→>1 上角“*”是采用了另一种基准态。 将式yi (2-2)1得:y=x 因此,f=H=1 (223) 或=k1(,P一定,x1→>0) 2-24) 上式也称为享利定律,亨利常数H不仅决定于溶剂、溶质的性质和系统的温度,而且 也和系统的总压有关 对于由一个溶质(不凝性组分)和一个溶剂(可凝性组分)构成的二组分溶液,通常溶剂的 活度系数按式(2-18)定义基准态,而溶质的活度系数按式(2-22)定义基准态,由于两组分 的基准态不同,称为不对称型标准化方法。8 基准态是与系统具有相同 T、相同 P 和同一相态的纯 i 组分，故： ˆ L i  = f x f L i i i (2-19) 式中 L i f 为纯液体组分 i 在 T、P 下的逸度。 因 i i f P  ，由式(2—16)得： ( ) s i s i L P P i i i P L s i i s i s i f RT RT RT ln v v dP v dP P RT P P P v P P P ln ln RT P          = − + −                 − = + −    P i 0 0 1 1 d RT - P = (2-20) 则纯液体组分 i 在 T、P 下的逸度： f P expv (P P ) RT  S S i L i i S i L i =  • − (2-21) 式中 L i v 是纯组分 i 在 T、P 下的摩尔体积 ； s Pi 为相应的纯组分 i 的饱和蒸汽压； s i 为校正处于饱和蒸汽压下的蒸汽对理想气体的偏离；指数校正项也称普瓦廷 (Poynting)因子，是校正压力偏离饱和蒸汽压的影响。 (2)不凝性组分的基准态逸度 对于不凝性组分，活度系数的基准态： 当 xi → 0 时，  i →1 （2-22） 上角“*”是采用了另一种基准态。 将式 l i OL i ˆ f i xf  = ，(2—22)得： ˆl OL i i i f x f = 因此， ˆ x f f H → x =  i L oL i i 0 i lim （2-23） 或 i L f i Hx ˆ = (T, P 一定， xi → 0 ) (2-24) 上式也称为亨利定律，亨利常数 H 不仅决定于溶剂、溶质的性质和系统的温度，而且 也和系统的总压有关。 对于由一个溶质(不凝性组分)和一个溶剂(可凝性组分)构成的二组分溶液，通常溶剂的 活度系数按式(2—18)定义基准态，而溶质的活度系数按式(2—22)定义基准态，由于两组分 的基准态不同，称为不对称型标准化方法