§20-1 光的相干性 § 20-2 双缝干涉 空间相干性 § 20-3 薄膜的等倾干涉 § 20-4 薄膜的等厚干涉 § 20-5 干涉仪 相干长度 §20-6 偏振光的干涉

14.1 干扰的来源 14.2 供电系统干扰及其抗干扰措施 14.2.1 电源噪声来源、种类及危害 14.2.2 供电系统的抗干扰设计 14.3 过程通道干扰的抑制措施—隔离 14.3.1 光电隔离的基本配置 14.3.2 光电隔离的实现 14.4空间干扰及抗干扰措施 14.4.1 接地技术 14.4.2 屏蔽技术 14.5 反电势干扰的抑制 14.6 印刷电路板的抗干扰设计 14.6.1 地线及电源线设计 14.6.2 去耦电容的配置 14.6.3 印制板的布线的抗干扰设计 14.7软件抗干扰措施 14.7.1 软件抗干扰的一般方法 14.7.2 指令冗余和软件陷阱 14.7.3 软件滤波 14.7.4 开关量输入/输出软件抗干扰设计 14.8 看门狗定时器的使用

§3.1 光源的相干性 §3.2 双缝干涉及其他分波面干涉实验 §3.3 时间相干性 §3.4 空间相干性 §3.5 光程 §3.6 薄膜干涉（一） — 等厚条纹 §3.7 薄膜干涉（二） — 等倾条纹 §3.8 迈克耳逊干涉仪

一、光的相干性光程 二、分波面两束光的干涉 三、光的空间相干性 四、分振幅两束光的干涉 五、迈克尔孙干涉仪光的时间相干性

烟气脱硫 按照脱硫方式和产物的处理形式划分,烟气脱 硫一般可分为湿法、千法和半干法三大类。 湿法烟气脱硫技术(WF一以水溶液或浆液作 脱硫剂,生成的脱硫产物存在于水溶液或浆液 中,产物为湿态。 干法烟气脱硫技术(DF——加入的脱硫剂为 干态,脱硫产物仍为干态

《物理光学》PPT课件：光的干涉和干涉仪（产生干涉的条件、双光束干涉的基本理论与杨氏干涉系统）

一.光的相干性 二.分波面两束光的干涉 三光的空间相性 四.分振幅两束光的干涉

基于统计分析方法,导出了传统并行干扰消除检测器(PIC)、部分干扰消除检测器(P-PIC)和最小均方误差检测器(MV-PIC)的输出均值和方差.结果表明:与传统PIC检测器比较,P-PIC检测器降低了软判决量的均值和方差的偏差;选择恰当的部分干扰消除系数,可以使MV-PIC的输出均值增大、方差减小、误码性能优于PIC检测器

应用扫描Kelvin探针原位研究盐雾和干湿周浸环境中缺陷涂层膜下的腐蚀行为.结果显示:在两种腐蚀环境中,缺陷涂层均分为缺陷、阴极剥离及完好涂层区域;Kelvin电位的分布相同,缺陷处最高,完整涂层处最低.Kelvin电位分布峰的直径随时间的延长而增大,表明剥离区域扩大.干湿周浸环境中,Kelvin电位的最大值Vmax随时间变化不明显,Vmin在逐渐下降后达到谷值,随后升高;盐雾环境中由于电解质溶液持续扩散和盐雾颗粒极强的腐蚀性,Kelvin电位随时间的变化规律为Vmin在起始阶段达到最小值,随后升高.由Vmax-Vmin的变化规律得出,干湿周浸环境下腐蚀倾向性在试验开始5h后达到最大,而在盐雾环境下,试验开始阶段腐蚀倾向性就达到最大,且要高于干湿周浸环境

第二十一章光的干涉 21—1相千光 21—2双缝干涉 21—3薄膜干涉 21—4迈克耳逊干涉仪