以红土镍矿为原料,利用深还原工艺将镍和铁由其矿物还原成金属镍和铁,再通过磁选分离富集得到高品位的镍铁精矿.对深还原焙烧工艺参数进行了优化,得到最佳的工艺条件如下:内配碳量(C/O原子比)为1.3,还原时间为80 min,CaO质量分数为10%,还原温度为1300℃.在此条件下得到的镍铁精矿中镍品位为5.17%,全铁品位为65.38%,镍和铁的回收率分别为89.29%和91.06%.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS)对深还原矿及磁选后的镍铁精矿进行了分析,发现深还原矿中出现金属粒,为Ni-Fe合金,镍全部溶于镍铁合金中,铁还有少部分以FeO的形式存在;磁选过程除去大量的脉石,精矿中主要物相为Fe、Ni-Fe、FeO及少量的CaO·MgO·2SiO2

有效数字 有效数字的修约规则 有效数字的运算法则 一、偶然误差的正态分布 二、 t 分布 三、 平均值的精密度和置信区间 四、 显著性检验 五、 可疑数据的取舍 六 相关与回归

介绍了宣钢炼钢厂采用单喷颗粒镁铁水脱硫工艺,改善了转炉冶炼原料铁水条件,同时对镁在铁水中的脱硫机理作了简要的叙述.该工艺在生产实践中不断优化,使铁水经过预处理后终点硫均达到0.010%(质量分数)以下,最低终点硫含量达到0.003%,满足了炼钢铁水要求

以玻璃包覆FeCoSiB合金微丝为对象,研究了氢氟酸含量和反应温度对包覆层去除过程的影响,以及缓蚀剂对Fe-CoSiB芯丝的保护效果.结果表明:在反应温度为25℃的条件下,当所采用的HF质量分数从10%增加到40%时,玻璃包覆层去除速度从0.005μm·s-1提高至0.076μm·s-1;在HF质量分数为40%的条件下,当反应温度从10℃升高到45℃时,玻璃包覆层去除速度从0.033μm·s-1提高到0.234μm·s-1;反应温度为20~25℃时,用质量分数40%的氢氟酸溶液去除厚度范围为7.5~9.0μm高硼硅玻璃包覆层的最佳时间为150s;硫氰酸钠及硫氰酸钠+乌洛托品作为缓蚀剂均可显著抑制氢氟酸溶液对芯丝的腐蚀,硫氰酸钠+乌洛托品还可有效减少金属吸氢,有利于防止芯丝力学性能的劣化

§6-1 平衡态 温度 理想气体状态方程 §6-2 理想气体压强公式 §6-3 温度的统计解释 §6-4 能量均分定理 理想气体的内能 §6-5 麦克斯韦分子速率分布定律 *§6-6 玻耳兹曼分布律 §6-7 分子的平均碰撞次数和平均自由程 *§6-8 气体内的输运过程

在前两节中,我们讨论了正态总体的假设检验问题.本节我们讨论一般总体的假设检 验问题,此类问题可借助一些统计量的极限分布近似地进行假设检验,属于大样本统计范 畴.其理论依据是中心极限定理

9.5双组分精馏的设计型计算 9.5.1理论板数的计算 (1)设计型命题 设计型计算的认为式根据规定的分离要求选择精馏的操作条件,计算所需的理论板数。规定分离 要求是对塔顶、塔底产品的质量和数量(产率)提出一定的要求,也即某个有用产品的回收率n

基于CFD(Computational Fluid Dynamics)数值方法VOF(Volume of Fluid)模型,利用FLUENT软件对彩涂板生产过程中带料辊空转的情况进行了数值模拟,研究了带料辊旋转速度、涂料盘内的涂料量、涂料盘的尺寸、进出口位置以及涂料进口的速度对涂料起泡性和涂层均匀性的影响.数值结果表明,对生产彩涂板来说,带料辊旋转速度越大,涂层的均匀性越差;涂料盘里的涂料高度越高,涂料较容易发生起泡现象;涂料盘长度和宽度越大,涂层的均匀性相对越好;涂料进口速度越大,涂料的起泡性越强;涂料盘进、出口位置也会对涂层均匀性造成影响

第一节 电磁波的一般概念 一、光的频率与波长 二、光的能量及分子吸收光谱 第二节 紫外和可见吸收光谱 一、紫外光谱及其产生 二、朗勃特—比尔定律和紫外光谱图 三、紫外光谱与有机化合物分子结构的关系 四、紫外光谱的应用 第三节 红外光谱 一、红外光谱图的表示方法 二、红外光谱的产生原理 三、红外光谱与分子结构的关系 四、 红外吸收峰的强度 五、红外光谱图解析举例 第四节 核磁共振谱 一、基本知识 二、屏蔽效应和化学位移 三、峰面积与氢原子数目 四、峰的裂分和自旋偶合 五、磁等同和磁不等同质子 第五节 质谱（MS）简介

掌握分布函数的概念和麦克斯维速率分布律,能理解三种特殊 的速率并理解其物理意义,理解分布函数的统计规律性,从而理解 力学规律和统计规律的区别,了解测定分子热运动统计规律的实验 方法和原理,掌握自由度的概念和能均分定理,掌握气体的内能的 含义,导出理想气体的内能公式,了解经典理论热容量表述的局限 性。 重点:分布函数的规律性及其特点,统计平均的一般方法,三个速 率,碰撞数,能均分定律,理想气体的内能包括两个热容量。 难点:分布函数的规律及其特性,统计平均的一般方法