3.3.1 半导体二极管的结构 3.3.2 二极管的伏安特性 3.3.3 二极管的主要参数

7.1 I/O接口扩展概述 7.2 MCS-51与可编程并行I/O芯片8255A的接口 7.3 显示器键盘接口 7.2.2 工作方式选择控制字及C口置位/复位控制字 7.2.3 8255A的三种工作方式 7.2.4 MCS-51单片机和8255A的接口 7.3 用74LSTTL电路扩展并行I/O口 11.1 MCS-51与DAC的接口 11.2 MCS-51与ADC的接口 11.3.MCS-51与ADC0809的接口

采用交流阻抗谱研究了无电镀镍浸金处理电路板在模拟电解质溶液(0.1mol·L-1 NaHSO3)中的电化学腐蚀行为,并结合体视学显微镜、扫描电镜、X射线能谱分析等手段分析了试样表面腐蚀产物形貌、组成和镀层失效机制.无电镀镍浸金处理电路板在NaHSO3溶液中的耐蚀性较差,浸泡12h试样表面局部即发生变色,伴随有微裂纹的产生.电解液能够通过裂纹直接侵蚀Cu基底,并在微裂纹周围生成较多的枝晶状结晶产物,其主要组分为Cu2S.该结晶腐蚀产物的不断生成使局部区域中间Ni过渡层与Cu基底结合部位存在较大的横向剪切应力,最终造成Ni镀层的脱离与鼓泡现象

本文用交流阻抗技术,通过对钝化铬在中性H3BO3+Na2B4O7溶液中添加了K3Fe2(CN)6/K4Fe(CN)6氧化还原对溶液中的极化性能及交流阻抗特性的研究,讨论了铬的钝化膜的电路模型

采用交流阻抗技术研究了钝化304不锈钢在pH8.4,H3BO3(0.2Mol/t-Na2B4O7(0.05mol/1)及pH9.2,Na2B4O7(0.05mol/l)的含氯介质中的点蚀行为;提出了点蚀的反应机理及发展阶段的界面等效电路模型,并认为在点蚀的发生和发展阶段都可能有复合物(MOHCl)及其进一步的吸附产物(MOHCl-Cln-)ad形成

采用电化学交流阻抗谱法研究了Na3AlF6(冰晶石)-Al2O3熔盐体系的总电导以及CaO加入对其电性能的影响.根据测得的阻抗谱,提出了等效电路,用EvolCRT电化学软件对阻抗数据进行了拟合.获得了Na3AlF6-Al2O3体系电导率随温度及Al2O3浓度变化的数学关系.CaO加入使得体系电导率增加

9.1 角度调制 9.1.1 概述 9.1.2 调角波性质 9.1.3 调频方法 9.1.4 变容二极管调频 9.1.5 电抗管调频 9.1.6 晶体振荡器直接调频 9.1.7 间接调频 9.2 角度调制信号的解调 9.2.1 调频信号的解调方法 9.2.2 振幅鉴频器 9.2.3 相位鉴频器 9.2.4 比例鉴频器 9.2.5 正交鉴频器

§1.3.1 基尔霍夫定律 §1.3.2 基尔霍夫定律 §1.3.3 从网络到图 §1.3.4 KCL、KVL的矩阵形式 §1.3.5 特勒根定理

§1.4.2 独立电源 §1.4.2 几种典型的独立源信号波形及其符号

3.1 自感式传感器 3.1.1 基本工作原理 3.1.2 自感式传感器的测量电路 3.1.3 自感式传感器应用 3.2 差动变压器式传感器 3.3 电涡流传感器