5.1 基本概念 5.2 基本结构的版图 5.3 单元概念 5.4 FET的尺寸确定和单位晶体管 5.5 逻辑门的物理设计 5.6 设计层次化

所谓二次设备,就是对一次设备进行控 制、测量、监察、保护及调节的设备, 它包括控制和信号器具、测量仪表、继 电保护装置、自动装置、远动装置、操 作电源及二次电缆等。 反应二次部分的图纸有原理与和接线图: 原理图主要反映二次装置的工作原理 (通常使用展开图);接线图主要用于 安装维护

目前电子器材用于各类电子设备和系统仍然以印制电路板为主要装配方式。实践证明, 即使电路原理图设计正确,印制电路板设计不当,也会对电子设备的可靠性产生不利影响 例如,如果印制板两条细平行线靠得很近,则会形成信号波形的延迟,在传输线的终端形成 反射噪声

11.1菜单设计 11.2对话框设计 11.3图形用户界面设计工具

6.1 划分设计技术 6.2 分治设计技术 6.3 平衡树设计技术 6.4 倍增设计技术 6.5 流水线设计技术

3.1 General Principles for Designing Safer Chemicals 3.1.1 General Principles for Designing Safer Chemicals 3.1.2. Building the foundation for designing safer chemicals 3.2 Techniques in designing of safer chemicals ❖ 3.2.1 毒理学分析及相关分子设计 ❖ 3.2.2 利用构效关系设计安全的化学品 ❖ 3.2.3 利用基团贡献法构筑构效关系 ❖ 3.2.4 利用等电排置换设计更加安全的化学品 ❖ 3.2.5“软”化学设计 ❖ 3.2.6 用另一类有相同功效而无毒的物质替代有毒有害物质 ❖ 3.2.7 消除有毒辅助物品的使用

一、设计输入 1、建立My_dff.gdf图形设计文件 （1)建立图形设计文件

精馏和吸收都属气液传质过程，过程进行的主要设备是塔设备。它广泛用于各种化工生产中。本章主要讨论其设计和应用、操作情况

流体流动是最普遍的化工单元操作之一，研究流体流动问题也是研究其它化工单元操作的重要基础。涉及流体流动规律的主要方面有：(1)流动阻力及流量计量各种流体的输送，需要进行管路的设计、输送机械的选择以及所需功率的计算。(2)流动对传热、传质及化学反应的影响化工设备中的传热、传质以及反应过程在很大程度上受流体在设备内流动状况的影响。(3)流体的混合流体与流体、流体与固体颗粒在各类化工设备中的混合效果都受流体流动的基本规律的支配

一、概述 本实验系统主要由FPGA主芯片 (FLEX10K10LC84)和外围丰富的输入输出外 设构成。FPGA主芯片的所有用户可用IO口均没 有同任一外设固定接死,而仅仅以插孔的形式存 在,这为用此开发系统设计出复杂多样的实验提 供了极大的灵活性。 所有外设的接口逻辑都很友好,外设的驱动 已在系统内部为用户设计好,用户可以对所有外 设接口用简单的TTL逻辑电平进行操作