《DSP 器件与应用》课程教学大纲 《EDA 技术》课程教学大纲 《PLC 原理与应用》课程教学大纲 《VC 程序设计》课程教学大纲 《MATLAB 基础》课程教学大纲 《半导体器件及应用》课程教学大纲 《测控电路》课程教学大纲 《传感器与检测技术》课程教学大纲 《大学生心理健康教育》课程教学大纲 《大学生职业发展与就业指导》课程教学大纲 《大学物理 A》课程教学大纲 《单片机原理与应用》课程教学大纲 《电磁场与电磁波》课程教学大纲 《电机及拖动基础》课程教学大纲 《电力电子技术》课程教学大纲 《电路分析》课程教学大纲 《电气控制技术》课程教学大纲 《电视原理与技术》课程教学大纲 《电子测量技术》课程教学大纲 《高频电子线路》课程教学大纲 《机械制图》课程教学大纲 《控制电机》课程教学大纲 《模拟电子技术基础》课程教学大纲 《数字电子技术基础》课程教学大纲 《数字系统设计与 Verilog HDL》课程教学大纲 《数字信号处理》课程教学大纲 《通信原理》课程教学大纲 《微机原理与接口技术》课程教学大纲 《信号与系统》课程教学大纲 《自动控制原理》课程教学大纲 《LabVIEW 虚拟仪器》课程教学大纲 《电磁兼容基础》课程教学大纲 《高速 PCB 设计》课程教学大纲 《光电检测技术》课程教学大纲 《光电子技术》课程教学大纲 《集成电路概论》课程教学大纲 《科技写作基础》课程教学大纲 《模式识别》课程教学大纲 《嵌入式系统设计》课程教学大纲 《软件无线电基础》课程教学大纲 《视频监控系统》课程教学大纲 《数值分析》课程教学大纲 《数字图像处理》课程教学大纲 《随机信号分析》课程教学大纲 《微波技术基础》课程教学大纲 《信息论基础》课程教学大纲 《语音信号处理》课程教学大纲 《专业英语》课程教学大纲 《专业见习》教学大纲 《专业实习》教学大纲 《毕业设计》教学大纲 《金工实习》教学大纲 《电子技术工艺》教学大纲 《数字电子技术课程设计》教学大纲 《模拟电子技术课程设计》教学大纲

1．电位器控制 这是分压式信号衰减器。音量电位器控制的优点是电路简单，成本低廉，采 用优质电位器，完全可以保证其使用寿命。但是，因音频信号通过音量电位器， 所以会带来插入损耗和信号干扰，在使用日久后，电位器内的碳膜电阻会出现过 度磨损，表面积有碳粉或灰尘，轻者会使调音量时扬声器发出”喀喀”噪声，重 者会造成在电位器某个音量位置时，音量失控

仪器控制的基本概念 VISA简介 仪器控制实例 串口通信

仪器控制的基本概念 LabVIEW与仪器通信的通行证—— VISA LabVIEW进行仪器控制实例 串口通信

引言（数学模型的概念和意义） 输入输出描述法 数学模型的分类，传递函数，典型环节，系统的相似性，线性化 结构图（方块图）及其等效变换 反馈控制系统的传递函数 闭环传递函数，特征多项式与特征方程

采用热力学软件FactSage对CaO-Al2O3-SiO2-MgO四元系夹杂物的低熔点区域面积进行了分析计算，发现其低熔点区域可以根据碱度的不同分为两个区域，利用KTH模型对这两个低熔点区域内的硫容量进行了计算比较，并结合临氢钢12Cr2Mo1R对钢液成分及脱硫的要求，对其适用的低熔点区域进行了讨论.结果表明：如将夹杂物控制在碱度高的低熔点区域，则CaO的质量分数在30%左右，Al2O3在15%左右，MgO在10%左右，SiO2大于40%，且SiO2越多，低熔点区面积越大；如果将夹杂物成分控制在低碱度区域，则CaO在50%左右，Al2O3在45%左右，MgO的质量分数在5%左右，SiO2的质量分数小于5%.高碱度低熔点区的硫容量明显小于低碱度低熔点区，在两个低熔点区内，硫容量均随碱度的增加而增加，且钙铝比越大，硫容量随碱度增加的幅度越大；对于临氢钢12Cr2Mo1R来说，应将CaO-Al2O3-SiO2-MgO四元系夹杂物控制在高碱度低熔点区域，且碱度和钙铝比越大越好

6.1 概述 6.2 采购作业流程 6.3 采购作业控制 6.4 库存管理和控制 6.5 本章小结

第1章 概论 ◼ 1、1 水资源与水污染现状 ◼ 1、2 水污染类型 ◼ 1、3 废水中的污染物种类与水质指标 ◼ 1、4 水质控制标准 ◼ 1、5 废水水质控制方法 第 2 章 预处理 ◼ 2.1 水质和水量调节 ◼ 2.2 格栅和筛网 第 3 章 沉淀与上浮 3.1 沉淀的基础理论 3.2 沉砂池 3.3 沉淀池 3.4 隔油和破乳 3.5 浮上法 第4章 化学混凝法 4.1 胶体结构及其脱稳机理 4.2 混凝剂及其作用机理 4.3 混凝条件及混凝试验 4.4 混凝设备 第5章 中和法 5.1 概述 5.2 基本原理 5.3 酸性废水的中和处理 5.4 碱性废水的中和处理 第6章 化学消毒法 6.1 概述 6.2 氯消毒法 6.3 其它化学消毒法 第7章 氧化还原法 7.1 基本原理 7.2 药剂氧化法 一、空气(及纯氢)氧化法 二、臭氧氧化法 三、高锰酸盐氧化法 四、光辐射或放射性辐射强化氧化过程 7.3 药剂还原法 一、还原法去除六价铬 二、还原法除汞(Ⅱ)

9.1 I/O接口扩展概述 9.1.1 扩展的I/O接口功能 9.1.2 I/O端口的编址 9.1.3 I/O数据的传送方式 9.1.4 I/O接口电路 9.2 AT89S52扩展I/O接口芯片82C55的设计 9.2.1 82C55芯片简介 9.2.2 工作方式选择控制字及端口PC置位/复位控制字 9.2.3 82C55的3种工作方式 9.2.4 单片机扩展82C55的接口设计 9.2.5 AT89S52扩展82C55的应用举例 9.3 利用74LSTTL电路扩展并行I/O口 9.4 用AT89S52单片机的串行口扩展并行口 9.4.1 用74LS165扩展并行输入口 9.4.2 用74LS164扩展并行输出口 9.5 用I/O口控制的声音报警接口 9.5.1 蜂鸣音报警接口 9.5.2 音乐报警接口

本文针对上钢十厂二车间机φ170/φ400×350mm三机架冷轧机原有卷取张力控制系统存在的问题,采用了具有在线辨识对象参数的自校正调节器代替原系统的张力调节器的方案。经在线控制,表明自校正调节器应用于卷取恒张力控制是有效的