本项目将主要介绍半导体器件中的二极管、三极管、场效应管、晶闸管和单结晶体管的结构、特性、参数和应用。通过各种半导体器件的识别和检测，掌握半导体器件在电子电路中的应用。•掌握半导体和PN结•了解二极管结构、分类、特性和参数•熟悉常用二极管的特性及应用•掌握二极管的检测•掌握晶体三极管的结构和分类•掌握晶体三极管的特性曲线•熟悉晶体三极管的主要参数及选用方法•掌握晶体三极管的检测•掌握场效应管的结构和工作原理•熟悉场效应管的参数和使用特点•掌握场效应管的检测•掌握单向、双向晶闸管的结构、特性和工作原理•了解单向、双向晶闸管的主要参数•掌握单向、双向晶闸管的检测•掌握单结晶体管的工作原理、特性曲线和参数了解单结晶体管的应用

概述 7.1 D/A转换器的工作原理 7.2 典型D/A转换器芯片及其应用 7.3 A/D转换器的工作原理 7.4 典型A/D变换器芯片及其应用

（1）MCS-51系列的8051的基本结构； （2）存储器结构及其配置； （3）P0、P1、P2、P3四个I/O口的基本工作原理和操作特点； （4）单片机的时序 （5）复位

一、设计应掌握的基础资料 进行活性污泥系统的工艺计算和设计时，首先应比较充分地掌握与废水、污泥有关的原始资料并确定 设计的基础数据，主要有： ①废水的水量、水质及其变化规律； ②对处理后出水的水质要求； ③对处理中产生的污泥的处理要求； ⎯⎯以上属于设计所需要的原始资料

4.7.1 “活性”自由基聚合的发展 4.7.2 原子转移自由基聚合 4.7.3 原子转移自由基聚合的应用

• 引言 • 碳碳双键的不对称催化氢化 • 羰基化合物的还原 • 亚胺的不对称还原 • 不对称氢转移反应 • 不对称氢化制备氟化合物

一、氧化还原反应 二、原电池 三、电极电势 四、电解池 五、金属腐蚀

一、选择与填空 （30 分） 1. 吸收操作的原理是__________________。 2. 对接近常压的低浓度溶质的气液平衡系统，当总压增大时，亨利系数 将_____，相平 衡常数 将_____，溶解度系数 将_____。一、选择与填空 （30 分） 1. 吸收操作的原理是__________________。 2. 对接近常压的低浓度溶质的气液平衡系统，当总压增大时，亨利系数 将_____，相平衡常数 将_____，溶解度系数 将_____

第一节 冰淇淋的生产 一、概 述 二、冰淇淋的组成及种类 三、冰淇淋原料和辅料 四、冰淇淋的生产工艺 （一）工艺流程 （二）原材料的收纳与贮存 （三）原料的配比与计算 （四）配方的计算 （五）杀菌 （六）均质 （七）冷却与老化 （八）凝冻 （九）成型与硬化 五、冰淇淋的质量标准及质量缺陷 第二节 雪糕的生产 一、概述 二、雪糕的生产 三、膨化雪糕的生产 四、雪糕和冰棒缺陷

4.5.1 光栅传感器的结构 4.5.2 莫尔条纹形成的原理 4.5.3 莫尔条纹技术的特点 4.5.4 光栅的光路 4.5.5 辨向原理 4.5.6 细分技术