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1―1 半导体物理基础知识 1―2 PN结及晶体二极管 1―3 晶体二极管及其基本电路
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1遥感的概念 2电磁波和电磁波谱 3物体的发射辐射
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1.0概述 1.1半导体物理基础知识 1.2PN结 1.3晶体二极管电路分析方法 1.4晶体二极管的应用
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基本内容: 一、真空技术的物理基础 二、真空设备和工艺技术
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第1章晶体二极管 1.0概述 1.1半导体物理基础知识 1.2PN结 1.3晶体二极管电路分析方法 1.4晶体二极管的应用
文档格式:PPT 文档大小:268.5KB 文档页数:52
5.1 半导体光源的物理基础 5.2 半导体光源的工作原理 5.3 光源的工作特性 5.4 光发送机 5.5 驱动电路和辅助电路
文档格式:PPT 文档大小:268.5KB 文档页数:52
5.1半导体光源的物理基础 5.2半导体光源的工作原理 5.3光源的工作特性 5.4光发送机 5.5驱动电路和辅助电路
文档格式:PPT 文档大小:1.54MB 文档页数:50
一、1895年德国物理学家--伦琴”发现X射线 二、1895-1897年伦琴搞清楚了X射线的产生、传播、穿透力等大部分性质 三、1901年伦琴获诺贝尔奖 四、1912年劳埃进行了晶体的X射线衍射实验
文档格式:PPT 文档大小:4.89MB 文档页数:188
4.1 磁敏传感器的物理基础——霍尔、磁阻、形状效应 4.2 霍尔元件 4.3 磁阻元件 4.4 磁敏二极管 4.5 磁敏三极管 4.6 磁敏传感器的应用 思考题与习题
文档格式:PDF 文档大小:3.87MB 文档页数:50
5.1 IGZO金属氧化物半导体的物理基础 5.1.1 IGZO的结构与能带 5.1.2 a-IGZO中的电子态 5.1.3 CAAC-IGZO中的电子态 5.1.4 IGZO中的载流子传输机制 5.2 IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3 金属氧化物 TFT 中的关键材料 5.4 金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.4.1 磁控溅射法 5.4.2 溶液法 5.5 金属氧化物TFT 结构、制造工艺与性能 5.6 金属氧化物TFT的稳定性
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