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采用溶胶凝胶法制备TiO2-ZrO2载体,然后采用柠檬酸溶液浸渍法制备Cr-MnOx/TiO2-ZrO2复合催化剂.通过X射线衍射、比表面积测试(BET)、扫描电镜、X射线光电子能谱等测试方法对催化剂的物化性能进行表征分析,并进行NH3选择性催化还原NO实验,考察催化剂在低温下的活性及抗硫抗水性能.Cr元素介入到MnOx中,形成了新型的CrMn1.5O4活性物相,其中的Mn元素多以Mn3+和Mn4+存在.高价态的Cr5+使Mn元素由Mn3+向高氧化态的Mn4+转化,有利于低温选择性催化还原反应的进行.鉴于Cr元素第一电离能和电负性均低于Mn元素,能优先于Mn与SO42-和SO32-结合,保护MnOx不被硫酸化,从而提高Cr-MnOx/TiO2-ZrO2催化剂的抗毒性能.制备的五种不同Cr/(Cr+Mn)摩尔比的催化剂中,Cr(0.4)-MnOx/TiO2-ZrO2的性能最优,其颗粒分散均匀,具有较大比表面积,在180℃时脱硝效率能够达到95.8%,同时通入5%H2O和10-4SO2,脱硝效率缓慢下降,反应8h后,下降到73%,并保持稳定
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1. 了解分析化学中EDTA及其螯合物的分析特性。 2. 掌握络合平衡的副反应系数和条件稳定常数的计算。 3. 了解金属离子指示剂的作用原理、指示剂的选择原则及常用的金属离子指示剂的使用条件。 4. 熟悉络合滴定曲线、化学计量点和滴定突跃。 5. 了解络合滴定的应用及计算。 10.1 EDTA:络合滴定最重要的滴定剂 EDTA –the most important titrant in complexometric titration 10.2 条件稳定常数 Conditional stability constant 10.3 络合滴定原理 Principle of complexometric titration 10.4 滴定干扰的消除 Wipe-out of disturbance in complexometric titration 10.5 络合滴定方式 Titration methods employing EDTA
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杂环化合物组成环的原子除C原子之外,还有0、S、N等其它杂原子的化合物
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1.发酵原理课程的沿革。 2.为什么说微生物是工业发酵的灵魂? 3.研究大千世界从何入手? 4.怎样对抽象的问题进行形象思维? 5.怎样认识微生物生物机器? 6.知己知彼是主动合作的基础。 7.发酵原理的研究方兴未艾
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一、金属的特性和金属键 1、特性 良好的导电性、导热性、塑性,具有金属光泽,不透明,正的电阻温度系数。 2、原因 这主要是与金属原子的内部结构以及原子间的结合方式有关
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2.1硬件设备 22全站仪概述 2.2.1全站仪的发展 2.2.2全站仪的概念 2.2.3全站仪的基本组成 2.2.4全站仪的分类 2.2.5防水等级 23全站仪测量原理 2.3.1电子测距原理 2.3.2电子测角原理和方法 24全站仪部件名称及功能 2.5全站仪的检校 2.6使用全站仪测图 2.7数据通讯 2.7.1数据通信的基本概念 2.7.2全站仪通信参数的设置
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复习思考题 被子植物的原始科---兰科的原始性表现在哪些方面? 答:木兰科的原始性表现在植物体为木本,单叶,全缘,羽状脉,虫媒花,花常单生,花部螺旋状排列,花药长,花丝短,单沟花粉,胚小,胚乳丰富等
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以十二胺为捕收剂,木薯原淀粉、取代度为0.026和0.21的羧甲基淀粉和取代度为0.0065和0.055的磷酸酯淀粉作为抑制剂,考察了赤铁矿与石英的可浮性,重点研究了基团取代度对变性淀粉抑制性能的影响.结果表明:原淀粉、取代度0.026的羧甲基淀粉和取代度0.0065的磷酸酯淀粉对赤铁矿有良好的抑制作用,而取代度0.21的羧甲基淀粉和取代度0.055的磷酸酯淀粉对赤铁矿的抑制能力较弱;原淀粉和取代度0.026的羧甲基淀粉对石英有较强抑制作用,其他3种淀粉对石英抑制能力较弱.可见,低取代度的磷酸酯淀粉,在赤铁矿阳离子反浮选脱硅中可作为较高选择性的抑制剂.Zeta电位测定结果表明,特征基团取代度相对较高的变性淀粉,与赤铁矿和石英作用后,矿物Zeta电位负值较大.变性淀粉的取代度越高,其伸展向溶液中荷负电的基团越多,使阳离子捕收剂通过静电作用吸附于矿物表面,减弱了变性淀粉的抑制能力
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一、约束、虚位移、虚功 二、虚位移原理 三、虚位移原理的应用
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真空电弧重熔镍基高温合金GH220,自耗电极端部熔化区\突出环\内部的镁分布基本均匀;而熔化液层及液固两相区的镁分布不均匀,从熔化液层表面到原始电极区镁含量显著增高。熔化液层中距表面约0.3毫米内的镁含量[Mg]s和重熔锭镁含量[Mg]i均与电极原始镁含量[Mg]e呈直线关系,本试验条件下,[Mg]s=0.18[Mg]e;[Mg]i=0.30[Mg]e。重熔过程的镁挥发主要发生于电极端部熔滴形成阶段,挥发过程主要受控于镁由原始电极向熔化液层-气相界面迁移的速度,传质系数K12=0.107厘米·秒-1。真空感应熔炼GH220,镁挥发受液相边界层中扩散与界面挥发反应的混合控制,并非受控于气相边界层中镁的扩散。在试验条件下,液相边界层中镁的扩散与界面挥发反应总传质系数K23=10-1~10-2厘米·秒-1,而气相边界层中镁扩散的传质系数K4=47.17厘米·秒-1。根据(d[Mg])/dτ=-K23·VA及-K23与工艺参数的关系,建立了镁挥发的数学模型,即[Mg]e与镁加入量、挥发温度、气相压力、保持时间、合金液面面积、溶体体积之间的定量关系式。此模型在实验室和生产条件下均得到了很好的验证,可用于调整真空感应熔炼的工艺参数,实现有效的控制合金镁含量
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