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华东理工大学:《物理化学》课程教学资源(习题解答)第17章 电化学
文档格式:PDF 文档大小:169.19KB 文档页数:17
1.25℃时电池 Ag, AgCK(s)HCK(aq) CI2 (. MPa),Pt 的电池反应电势为1.1362V,电池反应电势的温度系数为-5.95×10 .试计算电池反应 Ag()+Cl2 (.)>(s) 在25℃时的△Gm、△Sm和△Hm
T122耐热钢热变形加工图及热成形性
文档格式:PDF 文档大小:608.68KB 文档页数:5
在Gleeble 3500热模拟试验机上进行热压缩实验、采用动态材料模型理论、双曲线本构方程及Liapunov稳定性判据,建立了T122耐热钢热变形加工图.利用所建立的加工图,分析了不同温度和应变速率下T122钢的热成形性及其与显微组织的关系、结果表明:T122钢在1085℃以上、应变速率小于0.37s-1压缩变形时,功率耗散效率达到峰值0.2,此时发生了完全动态再结晶;对于工业热加工,建议在变形温度为1085~1150℃和应变速率大于0.13s-1的范围内选择加工参数
反应等离子喷涂TiN涂层电化学腐蚀行为
文档格式:PDF 文档大小:537.39KB 文档页数:5
利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术,研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为.研究结果表明:TiN涂层的自腐蚀电位高于基体,涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用;腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体,从而使涂层电阻下降、电容增加,所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行,但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行.涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因
武汉大学遥感信息工程学院:《数字图像处理》课程教学资源(PPT课件讲稿)第三章 图像变换
文档格式:PPS 文档大小:166KB 文档页数:18
讲解内容: 1. 图像变换的目的、要求和应用 2. 傅立叶级数、 频谱分析概念及其意义 3.一维、二维连续、离散傅立叶变换定义、性质及其应用 目的: 1. 熟悉二维傅立叶变换定义、性质及其应用; 2. 掌握一维傅立叶变换算法及频谱分析方法
《网络营销实用教程》课程电子教案(PPT课件讲稿)第七章 网络营销产品及顾客服务策略
文档格式:PPT 文档大小:114KB 文档页数:16
一、网络营销产品层次概念 二、网络营销产品的分类(重点) 三、网络营销产品选择策略(重点) 四、网络营销产品组合策略 五、网络营销品牌经营策略 六、网络营销中顾客的需求特征 七、网络在客户服务中的应用(重点) 八、FAQ在客户服务中的应用 九、 EMAIL在客户服务中的应用
碳纤维复合材料单向层合板自传感特性
文档格式:PDF 文档大小:511.27KB 文档页数:5
通过测试碳纤维/环氧复合材料(CFRP单向层合板单轴拉伸和循环拉伸时的电阻变化,研究了碳纤维复合材料单向层合板自传感特性.结果表明:不同铺层方向CFRP单向层合板拉伸时体积电阻变化特性各不相同,该电阻变化特性比应力、应变能更多地反映有关材料内部结构变化的信息;CFRP单向层合板具有压阻效应,压阻效应随着应力的增加而增加,偏轴拉伸、横向拉伸时压阻效应比纵向拉伸时要大,且随铺层方向角的增大,压阻效应越来越明显.利用CFRP单向层合板这种自传感特性,可实现在线实时自监测以及对其损伤、破坏的自诊断
厦门大学数学科学学院:《高等代数》课程教学资源(应用与实验)行列式应用——行列式在空间解析几何中的应用
文档格式:PDF 文档大小:126.04KB 文档页数:7
厦门大学数学科学学院:《高等代数》课程教学资源(应用与实验)行列式应用——行列式在空间解析几何中的应用
《电子技术基础》课程教学资源(模拟电子技术)PPT课件讲稿:集成运算放大器的应用基础
文档格式:PPT 文档大小:1.57MB 文档页数:30
一、理想运算放大器的特点 二、负反馈是集成运放线性应用的必要条件 三、运算放大器的基本电路 四、集成运放的线性应用
华东理工大学:《物理化学》课程教学资源(习题解答)第8章 各类反应的动力学
文档格式:PDF 文档大小:122.42KB 文档页数:8
1.溶液反应 Co(NH3)F2+H2O—→Co(NH3)3(H2O)”+F 是酸催化反应,其速率方程为
射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能
文档格式:PDF 文档大小:540.94KB 文档页数:5
研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜
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