第三章复杂直流电路 1.掌握基尔霍夫定律及其应用,学会运用支路电流法分析计算复杂直流电路 2.掌握叠加定理及其应用。 3.掌握戴维宁定理及其应用

概述 硅表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛 应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备

➢ 炔烃的几种制备方法 ➢ 炔烃的亲电加成（加成类型，加成取向），在合成中的应用 ➢ 炔烃的两种还原方法及在合成中的应用（顺、反烯烃的制备） ➢ 末端炔烃的特殊性质及在合成中的应用

7.1 弯曲正应力 7.2 弯曲正应力强度条件 7.3 弯曲切应力及强度条件

⚫ 烯烃加成的过氧化效应——自由基加成及聚合 ⚫ 烯烃的催化氢化反应 ⚫ 烯烃的氧化，氧化反应在合成上的应用

一个数据库应用系统往往涉及到多方面的复杂的 数据信息。例如,在学生管理信息系统中,要涉 及到学生、院系、宿舍、课程、成绩等数据。再 例如,在产品销售数据库中设计到产品、类别、 仓库、销售单、销售明细单等数据。 如何将所涉及到的数据组织存入到数据库中?是 放在一个表中存放还是分放在几个表中存放?每 个表应由哪些属性组成?怎样设计才是科学合理 的呢?

第18章DBS分析设计应用一进销 存系统分析设计报告 1.绪论:规划 2.需求分析 3.概念结构设计 4.数据库逻辑结构设计 5.数据库物理设计 6.数据库系统实施 7.测试报告 8.操作说明 9.系统开发总结 10.运行维护报告

第17章 ORACLE应用 17.1 ORACLE公司概况 17.2 ORACLE8i基本概念 17.3 ORACLE8i安装 17.4SQ*lus和P/SQL 17.5 ORACLE8i数据库基本操作 17.6 ORACLE8i完整性 17.7 ORACLE8i安全性 17.8 ORACLE8i并发控制 17.9 ORACLE8i备份恢复 17.10 Developer开发工具 17.11习题

◼ 卤代烷的类型及命名 ◼ 卤代烷的亲核取代，取代产物的类型 ◼ 亲核取代反应的两种机理——SN1和SN2机理 ◼ 碳正离子，碳正离子的稳定性，碳正离子的重排

1T形截面铸铁梁受力如图,许用拉应力[o=40Ma,许用压应力o=60mpa,已知 F1=12kN,F2=4.5k,=76510-8m4,y152mm,y2=88mm。不考虑弯曲切 应力,试校核梁的强度