6.1半导体的基本知识 6.2半导体二极管 6.3特殊二极管 6.4双极型二极管 6.5单极型三极管

第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展

一、工艺特点： 二、发射区掺杂浓度高 三、基区很薄且掺杂浓度低 四、集电结面积大

1.1 半导体基础知识 1.2 半导体二极管 1.3 双极型晶体管 1.4 场效应管 1.5 单结晶体管和晶闸管 1.6集成电路中的元件

放大电路 半导体、PN结、 BJT载流子运动 物理、化学

第1章晶体二极管 1.0概述 1.1半导体物理基础知识 1.2PN结 1.3晶体二极管电路分析方法 1.4晶体二极管的应用

6.1 气体激光器 6.2 固体激光器 6.3 半导体激光器（LD） 6.4 发光二极管（LED） 6.5 电子束显示器件 6.6 液晶显示器件 6.7 等离子体显示

一、PN结的形成 二、PN结的单向导电性

2.1半导体的基本知识 2.2PN结的形成及特性 2.3半导体二极管 2.4二极管基本电路及其分析方法 2.5特殊二极管

1―1 半导体物理基础知识 1―2 PN结及晶体二极管 1―3 晶体二极管及其基本电路