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6.1 抽样定理——sampling theorem 6.2 脉冲模拟调制 6.3 脉冲编码调制(PCM, pulse-code modulation) 6.4 差分脉冲编码调制 6.5 增量调制 (Delta modulation, ΔM, DM) 6.6 时分复用 (TDM,time division multiplexing)
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 定义:HD, IM, 交调点  MOS管的非线性 单端放大器 差分放大器  双极型晶体管的非线性  负反馈能够减小非线性  运算放大器的非线性  其他非线性和准则
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 噪声定义  共源放大器的噪声  源极跟随器的噪声  共栅放大器的噪声  电流镜的噪声  差分对的噪声  密勒CMOS OTA的噪声  容性噪声匹配  电压/电流检测器的噪声对比
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 定义  电压放大器的串联-并联反馈  跨导放大器的串联-串联反馈
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4.1感光材料的结构和性能 4.2感光成像原理 4.3显影 4.4定影 4.5 图像反转冲洗工艺 4.6重氮盐感光材料
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4-1、分解的基本步骤 4-2、单口网络的电压、电流关系 4-3、单口网络的置换-置换定理
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第一讲 :溶液概述、偏摩尔量和化学势 第二讲 :混合气体中各组分的化学势、部分习题解答 第三讲 :稀溶液中的两个经验定律、理想液态混合物 第四讲 :稀溶液中各组分的化学势、溶液的依数性 第五讲 :非理想溶液、分配系数、小结
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1、了解统计热力学的基本假定。 2、了解最概然分布,掌握 Boltzmznn 统计方法。 3、了解配分函数的定义及其物理意义,掌握配分函数与热力学函数的关系。 4、了解各种配分函数的计算方法,学会用配分函数计算简单分子的热力学函数,掌握理想气体简单分子平动能熵的计算。 5、了解分子配分函数的分离和全配分函数的组成
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固体材料在使用过程发生的各种物理化学变化(催化、腐蚀、摩擦、磨损、电子发射、……)是从表面向内部逐渐进行的,过程的进行依赖于表面结构与性质。认识表面结构与性质是研究表面间发生各种相互作用的基础。通常金属在固态下都是晶体。原子按一定几何形状有规则排列。基本排列形式有体心立方、面心立方和密排六方。晶体结构不同,力学和物理性能也不同。晶体结构变化可改变表面的摩擦磨损特性(钴在加热时从密排六方晶格转为面心立方晶格,摩擦因数增大)
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1、了解从平衡条件导出化学反应等温方程式,掌握化学反应等温方程式的意义及其应用。 2、明确标准平衡常数 K 的意义,熟练掌握平衡常数和平衡组成的计算. 3、明确理想气体反应的标准平衡常数 K 和经验平衡常数 Kp、Kc、Kx 之间的换算。 4、理解物质生成吉氏自由能与反应过程 ΔrG 的意义,掌握 ΔrGθm=-RTlnKθ 的有关计算。 5、熟悉浓度、温度、压力与惰性气体对平衡的定量影响。 6、了解同时平衡、反应偶合
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