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1.1 二维傅里叶分析 1.2 空间带宽积和测不准关系式 1.3 平面波的角谱和角谱的衍射 1.4 透镜系统的傅里叶变换性质
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1.1制图的基本规定 1.2绘图工具和仪器的使用 1.3几何作图 1.4平面图形的画法及尺寸标注 1.5绘图方法和步骤
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香港科技大学《基础数学》讲义:基础几何学之一 定性与定量平面几何/立体几何基础论
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主要章节:设计基础理论、色彩的基础知识、版面设计、综合欣赏
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主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。改进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。 生产产品主要包括: ➢ 以“FA/O 超大规模集成电路(ULSI)多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化(CMP)纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品; ➢ 以“FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O 电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。 产品主要应用于超大规模集成电路(ULSI)衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视机玻壳,液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次采油率等领域
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