连续环式反应池（Continuous Loop Reactor，简称 CLR), 通常称为氧化沟。它是由荷 兰卫生工程研究所(TNO)在五十年代研制成功的。第一家氧化沟处理厂于 1954 年在荷兰的沃 绍本（Voorshopen）投入使用，它是由该所的帕斯维尔（A. Pasveer)博士设计的，服务人口 为三百六十人。这是一种间歇流的处理厂，其中氧化沟同时用作二次沉淀池

本书试图既从理论上、又从实践上向读者提供氧化沟的有关资料。为了使设计人员能够一举获得一切所需的资料，我们把设计中的动力学理论基础与实验数据和方程式融为一体，通过大量的例子来指导读者利用这些资料。本书所列的数据、动力学常数以及劳动力需要量之类的资料，为读者提供了一个有关氧化沟的综合资料来源

格栅由一组（或多组）相 平行的金属栅条与框架组 成，倾斜安装在进水的渠 道，或进水泵站集水井的 进口处，以拦截污水中粗 大的悬浮物及杂质。 作用：去除可能堵塞水泵 机组及管道阀门的较粗大 悬浮物，并保证后续处理 设施能正常运行

第1章 概论 ◼ 1、1 水资源与水污染现状 ◼ 1、2 水污染类型 ◼ 1、3 废水中的污染物种类与水质指标 ◼ 1、4 水质控制标准 ◼ 1、5 废水水质控制方法 第 2 章 预处理 ◼ 2.1 水质和水量调节 ◼ 2.2 格栅和筛网 第 3 章 沉淀与上浮 3.1 沉淀的基础理论 3.2 沉砂池 3.3 沉淀池 3.4 隔油和破乳 3.5 浮上法 第4章 化学混凝法 4.1 胶体结构及其脱稳机理 4.2 混凝剂及其作用机理 4.3 混凝条件及混凝试验 4.4 混凝设备 第5章 中和法 5.1 概述 5.2 基本原理 5.3 酸性废水的中和处理 5.4 碱性废水的中和处理 第6章 化学消毒法 6.1 概述 6.2 氯消毒法 6.3 其它化学消毒法 第7章 氧化还原法 7.1 基本原理 7.2 药剂氧化法 一、空气(及纯氢)氧化法 二、臭氧氧化法 三、高锰酸盐氧化法 四、光辐射或放射性辐射强化氧化过程 7.3 药剂还原法 一、还原法去除六价铬 二、还原法除汞(Ⅱ)