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在实际应用中,各系统之间的采样率往往是 不同的,例如,在音频范围内,广播系统的 采样率为32kHz,CD唱机的采样率为44.1kHz ,而数字录音带(DAT)的采样率为48kHz 这就需要设计一类数字滤波器,用于将被处 理信号的采样率转换成与相应系统所要求一 致的采样率。多采样率技术还有许多其他的 应用,过采样技术是其中的一个典型应用实 例

一、新股操作原理 1、上市首日换手率应尽可能大，至少应达到50%以上； 2、关注上市首日的价格定位； 3、等到探明底部； 4、收到上市首日实体或最高价之上； 5、回调不应收在上市首日实体的高点或最高价之下

一、新股操作原理 1、上市首日换手率应尽可能大，至少应达 到50%以上； 2、关注上市首日的价格定位； 3、等到探明底部； 4、收到上市首日实体或最高价之上； 5、回调不应收在上市首日实体的高点或最高价之下

10.1 单片机应用系统概述 10.2 键盘接口 10.3 显示器接口 10.4 数/模转换接口 10.5 模/数转换接口 10.6 单片机应用系统实例

第一节 点缺陷 POINT DEFECTS 点缺陷的形成 点缺陷的浓度 点缺陷的运动 点缺陷与材料行为 第二节 位错的基本概念 PRIMARY CONCEPT OF DISLOCATION 位错学说的产生 位错的基本类型和特征 位错的运动 第三节 位错的弹性性质 THE ELASTIC NATURE OF 位错的应力场 位错的应变能 作用在位错上的力 位错的线张力 位错与点缺陷的交互作用 位错间的交互作用力 第四节 位错的增殖 位错的密度 位错的增殖 第五节 实际晶体结构中的位错 THE DISLOCATION IN ACTUAL CRYSTAL STRUCTURE 实际晶体 结构中的 伯氏矢量 堆垛层错 不全位错 位错反应 面心立方 第五节 表面与界面 外表面 晶界与亚 晶界 孪晶界 相界

主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。改进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。 生产产品主要包括： ➢ 以“FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品； ➢ 以“FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O 电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。 产品主要应用于超大规模集成电路（ULSI）衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视机玻壳，液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次采油率等领域

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