背景知识 从物理学知道,在水深为h处的压强为p=h,这里y是 水的比重.如果有一面积为A的平板水平地放置在水深为 h处,那么,平板一侧所受的水压力为

8.1变量的地址和指针 一、变量:代表“内存中的某个存储单元” 二、内存地址—内存中存储单元的编号 (1)计算机硬件系统的内存储器中,拥有大量的存储单元(容量以1字节为单位)。为了方便管理,必须为每一个存储单元编号,这个编号就是存储单元的“地址”。每个存储单元都有一个惟一的地址。 (2)在地址所标识的存储单元中存放数据。 注意:内存单元的地址与内存单元中的数据是两个完全不同的概念

如果在x的某一去心邻域内f(x)≥0(或f(x)≤0),而且 f(x)→A(x→x),那么A≥0(或A≤0) 证明设在x的某一去心邻域内f(x)≥0. 假设上述论断不成立,即设A<0,那么由函数极限的 局部保号性就有x的某一去心邻域,在该邻域内f(x)<0,这 与f(x)≥0的假定矛盾.所以A≥0

定理3(收敛数列与其子数列间的关系) 如果数列{xn}收敛于a,那么它的任一子数列也收敛, 且极限也是a 证明设数列{xn}是数列{xn}的任一子数列. 因为数列{xn}收敛于a,所以ve>0,3nen+,当n>时, 有xn-ak. 取K=N,则当kK时,nK=N.于是xn-ak

化二次型为标准形 化二次型为标准形主要有两种方法:(1)正交变换法;(2)配方法. 例1用正交变换法将二次型f(x1,x2,x3)=2x2+x2-4x1x2 -4x2x3化为标准形,并求出所用的正交变换矩阵. 解二次型的矩阵为

一、概述 高水平的工艺良品率是生产性能可靠的芯 片并获得收益的关键所在。本章将简单介绍影 响良品率的主要工艺及材料要素,并对良品率 测量点做出阐述。 维持及提高良品率对半导体工业至关重要 ,因为半导体制造工艺的复杂性,以及生产一 个完整封装器件所需要经历的庞大工艺制程, 是导致这种对良品率超乎寻常关注的基本原因 。这两方面的原因使得通常只有20%至80%的芯 片能够完成生产线全过程,成为成品出货

标准的HTML并没有提供文件访问的能力,因此 若有文件访问的需求时就必须通过CGI程序访问服务 器上的文件。在ASP程序中,要访问 Server上的文件必 须先创建 FileSystemObject对象,然后利用此对象所提 供的 OpenTextFile(打开文件)或 Create TextFile(创建新文 件)创建File对象,最后调用File对象 Write的 Line及 Read Line访问文件

一、热力学基本方程是第一定律和第二定律的综合,包含有热力学 理论的全面信息,是热力学理论框架的中心。 二、上述方程没有将物质的量列为状态变量,所以对有相变化和化 学变化的多相封闭系统,要求相变化和化学变化已达到平衡

第九章卤代烃( alkyl halide) 一、卤代烃烃类分子中的氢原子被卤素取代后生成的化合物。简称卤烃。 二、一般所说的卤烃只包括:氯代烃、溴代烃和碘代烃。氟代烃的制法和性质比较特殊。 在卤烃分子中,卤原子是官能团。 (1)按照分子中母体烃的类别主要分为:卤代烷烃、卤代烯烃和卤代芳烃等。 (2)根据分子中卤原子的数目,分为:一元卤烃、二元卤烃、三元卤烃等。二元和二元以上的卤烃称为多卤烃

第十一章酚和醌 (一)酚 11.1酚的结构和命名 一、酚羟基(-OH)直接连在苯环上的化合物称为酚。 二、酚的分类—按照酚类分子中所含羟基的数目多少,分为一元酚和多元酚。 三、酚的命名—以苯酚作为母体,苯环上连接的其他基团作为取代基。根据分子中羟基的数目,分为:一元酚、二元酚、三元酚等